紫外及近可见光灯用滤光体制造技术

一种灯（１０），其包括封壳（１２）和设置在封壳内的照明光源（２２、２４、２６）。光源（２２、２４、２６）发射至少位于光谱的紫外和可见光区的辐射。膜（３０）设置在封壳周围，以阻挡从封壳发出的基本上所有ＵＶ区和可见光区内波长小于选定波长的光的透射，该选定波长大于约４５０ｎｍ。该膜透射基本上所有波长大于所述选定波长的可见光。该膜包含聚合物基体和分散在聚合物基体中的阻挡材料。聚合物基体和阻挡材料在大于１００℃的灯工作温度下ＵＶ稳定。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】紫外及近可见光灯用滤光体
技术介绍
本专利技术涉及具有滤光体的光源，滤光体有效阻挡灯的紫外(uv)透射， 同时在电磁谱的选定可见光区内提供高的光透射。本专利技术特别应用于不希 望存在的紫外光对工艺有害的加工环境，例如半导体元件的制造过程。大多数光源例如焚光灯发射的光遍及电磁谱的整个uv和可见光区。通常认为紫外光包括100至400纳米区域，可见光范围从约400纳米延伸 至700或750纳米。大多数荧光照明在UVA区域(320-400纳米)具有高的输 出以及在可见光区的近可见光(蓝光)部分(400-500纳米)具有强的发射。存在多种应避免或精细控制紫外光的应用，例如在使用UV可固化聚 合物的工艺中。例如，在平版印刷工艺中，使用包含光敏树脂的光致抗蚀 剂对硅片进行图案化。光致抗蚀剂中的感光剂经设计对特定波长的光起反 应。以可控的方式选择性地除去不需要的光致抗蚀剂。意外暴露于环境光 往往造成制造缺陷。按照常规，将滤光体放置于灯前以滤除UV。然而，这种滤光体并没有 始终将灯完全密封，导致UV泄露。另外，这种滤光体往往还阻挡很大部分 的可见光，使得流明输出明显降低。近来，灯具制造商开发出诸如T8和 T本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种灯，包括：　封壳；　设置在所述封壳内的照明光源，该光源发射至少位于光谱的紫外和可见光区的辐射；和　设置在所述封壳周围的膜，该膜阻挡从所述封壳发出的基本上所有的ＵＶ区和可见光区内波长小于选定波长的光的透射，所述选定波长大于约４５０ｎｍ，并且该膜透射基本上所有波长大于所述选定波长的可见光，　所述膜包含聚合物基体和分散在所述聚合物基体中的阻挡材料，所述聚合物基体和阻挡材料在大于１００℃的灯工作温度下ＵＶ稳定。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱莉安娜P赖斯曼，莉萨M沃德，罗伯特R加卢奇，保罗G赫拉霍尔，
申请(专利权)人：通用电气公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]