反应喷嘴、气相水解处理装置和气相水解处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供使两种类的流体反应且难以被由反应产生的固体成分闭塞的喷嘴。一种反应喷嘴（１），具有：喷出液状的第１流体的第１喷嘴（１０）；以与第１喷嘴呈同心圆状的方式配置于第１喷嘴的外侧，并喷出对第１流体进行微细化的第１气体的第２喷嘴（２０）；和第３喷嘴（３０），该第３喷嘴（３０）在比第１喷嘴和第２喷嘴靠下游侧、且在第１流体和第１气体的流的外侧具有开口部，并喷出与第１流体反应的第２流体。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及喷出两种类的流体使其反应的反应喷嘴、具有该喷嘴的气相水解处理装置以及气相水解处理方法。
技术介绍
从硅酮制造设备排出包含四甲氧基硅烷Si (0CH3)4、六甲基二硅氧烷 (CH3)3SiOSi (CH3)3等的硅酮(聚硅氧烷；silicone)的液体，并将其进行焚烧处理是一般所 采用的方法。在进行焚烧处理时，在焚烧炉内由喷嘴将液体喷雾，但由液体生成的二氧化硅 附着于喷嘴，产生将喷嘴闭塞等问题。因此，曾提出一种燃烧器，其使用具有喷出含有硅酮 的液体的中心管、从中心管的外侧喷出支持燃烧性/不燃性气体的第2外管和从第2外管 的外侧供给支持燃烧性/不燃性气体的流路的同心圆多重管结构，在使从中心管喷出的液 体利用来自第2外管的支持燃烧性/不燃性气体进行喷雾燃烧的同时，使发生了的火焰由 从配置于其外侧的流路供给的支持燃烧性/不燃性气体覆盖从而防止闭塞(参照专利文献 1)。专利文献1日本专利第3346266号公报(第4页，图2)
技术实现思路
另一方面，由半导体用硅制造设备排出含有以四氯硅烷SiCl4为首的各种氯硅烷 的液体，在这些液体中含有少许的有机物。可是，与含有作为有机硅化合物本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种反应喷嘴，具有：喷出液状的第１流体的第１喷嘴；第２喷嘴，该第２喷嘴以与所述第１喷嘴呈同心圆状的方式配置于所述第１喷嘴的外侧，并喷出对所述第１流体进行微细化的第１气体；和第３喷嘴，该第３喷嘴在比所述第１喷嘴和所述第２喷嘴靠下游侧、且在所述第１流体和所述第１气体的流的外侧具有开口部，并喷出与所述第１流体反应的第２流体。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：渡边邦男，箱崎忍，
申请(专利权)人：株式会社吴羽环境，株式会社吴羽工程，
类型：发明
国别省市：JP[日本]