一种青铜清洁液及高锡青铜材料的清洁方法技术

本发明专利技术公开了一种青铜清洁液，由按体积比为９－１９∶１的ＣｒＯ３溶液和Ｈ２ＳＯ４组成，其中，ＣｒＯ３溶液的浓度为５－１７ｇ／１００ｍｌ，溶质为ＣｒＯ３，溶剂为体积浓度为３０％的Ｈ２Ｏ２；Ｈ２ＳＯ４的浓度为９８％以上。本发明专利技术还公开了采用该青铜清洁液清洁高锡青铜材料的方法，将高锡青铜浸泡在硝酸溶液中，然后迅速放进青铜清洁液中浸泡后取出；再采用高压水枪冲洗高锡青铜组件；采用无水乙醇对高锡青铜组件脱水、烘干，即完成。本发明专利技术的青铜清洁液中的Ｈ２Ｏ２、ＣｒＯ３和Ｈ２ＳＯ４都是强氧化剂，所以沉淀物Ｈ２ＳｎＯ３会和青铜清洁液快速反应，将Ｈ２ＳｎＯ３溶解于该清洁液，从而达到清除高锡青铜表面沉淀的目的。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于超导材料处理
，涉及一种青铜清洁液，本专利技术还涉及采用 该青铜清洁液清洁高锡青铜材料的方法。
技术介绍
青铜法Nb3Sn超导材料作为实用化的低温超导材料，在高频核磁共振谱仪、IOT 以上强磁场装置、高能物理加速器等现代仪器装置中广泛应用。高锡青铜是青铜法Nb3Sn 超导材料的重要原料，为线材中Nb3Sn超导相的生成提供充足的Sn源。超导线材由于 其属于复杂的复合材料，其加工过程对组元的洁净要求非常高，组元的洁净能保证不引 入杂质进入超导材料中，也使得各组元之间有效地冶金结合，有利于得到长线和提高超 导线材的性能。传统的高锡青铜清洁采用硝酸或硫酸进行酸洗，但青铜和硝酸反应会在表面生 成一层沉淀，需要擦拭去除，而附着在高锡青铜表面的沉淀物采用擦拭的方式清除起来 比较麻烦，而且不容易清理干净，这样就会增加工序，降低效率。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种青铜清洁液，用于清洗酸洗过后高锡青铜表面的沉 淀，并保证了高锡青铜表面的洁净度及光泽度。本专利技术的另一目的是提供一种利用上述青铜清洁液清洁高锡青铜材料的方法。本专利技术所采用的技术方案是，一种青铜清洁液，由按体本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种青铜清洁液，其特征在于，由按体积比为９－１９∶１的ＣｒＯ↓［３］溶液和Ｈ↓［２］ＳＯ↓［４］组成，其中，ＣｒＯ↓［３］溶液的浓度为５－１７ｇ／１００ｍｌ，溶质为ＣｒＯ↓［３］，溶剂为体积浓度为３０％的Ｈ↓［２］Ｏ↓［２］；Ｈ↓［２］ＳＯ↓［４］的浓度为９８％以上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张科，张平祥，郭建华，贾晶晶，刘向宏，冯勇，
申请(专利权)人：西部超导材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：87[中国|西安]