清洁结构制造技术

一种清洁结构，包含一载体；以及数个分别设于载体表面上的清洁单元，而各清洁单元的端面分别具有一凹弧部，且各凹弧部的曲率介于７０％～９９％之间。藉此，可配合相关的致动机构运用于精密电子组件的表面清洁，使各清洁单元利用其端面凹弧部，而达到接触面大、清洁效率快以及去除脏污率高的功效。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种清洁结构，尤指一种可配合相关的致动机构运用于精密电子组件的表面清洁，使各清洁单元利用其端面凹弧部，而达到接触面大、清洁效率快以及去除 脏污率高功效的清洁结构。技术背景 —般的精密电子组件(如硅晶圆、硬盘、半导体及CPU芯片)所需的清洁结构如中国台湾专利第419401号的「清洁用海绵辊子」，其是由具有弹性的聚乙烯醇縮乙醛系多孔质体海绵所构成，同时在侧部表面配设数个突起，并使该突起的顶部旋转接触于被清洁体的清洁面来清洁被清洁体，其中该突起的顶部是由光滑度高的表层部所形成；藉此，可配合所需的致动机构以表面配设的数个突起，而达到清洁精密电子组件的功效。 而另一已知的如中国台湾专利第「于可转动基座上制造单片多孔垫之方法及材料」，其包括可转动基座，其包括一内表面及一外表面；多孔垫材料，其覆盖该基座的至少一部分的外表面，以用于自基材移除材料，该多孔垫材料与该基座结合；该多孔垫材料与该基座结合，而维持突出物于该多孔垫材料表面上的对准；藉此，可配合所需的致动机构以突出物达到清洁精密电子组件的功效。 虽然上述两种已知的「清洁用海绵辊子」与「于可转动基座上制造单片多孔垫之 方法及材料」皆可达到清洁精密电子组件的功效，但是由于该「清洁用海绵辊子」的突起的 顶部是由光滑度高的表层部所形成，且该突起的顶部为平面；而该「于可转动基座上制造 单片多孔垫之方法及材料」的突出物成型后亦为平面，因此，其二者于清洁时，较无法有效 接触原本即为不规则面的精密电子组件；故，一般现有的清洁结构并无法符合实际使用时 所需
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是针对上述现有技术的不足，提供一种清洁结 构，可配合相关的致动机构运用于精密电子组件的表面清洁，使各清洁单元利用其端面凹 弧部，而达到接触面大、清洁效率快以及去除脏污率高的功效。 为了解决上述技术问题，本技术所采用的技术方案是一种清洁结构，其包括 一载体及数清洁单元，该清洁单元分别设于载体的表面上，其特点是所述各清洁单元的端 面分别具有一凹弧部，且各凹弧部的曲率介于70 % 99 %之间。 如此，该清洁结构可配合相关的致动机构运用于精密电子组件的表面清洁，使各 清洁单元利用其端面凹弧部，而达到接触面大、清洁效率快以及去除脏污率高的功效。附图说明 图1是本技术第一实施例的立体外观示意图。 图2是本技术第一实施例的剖面状态示意图。 图3是本技术第一实施例的使用状态示意图。 图4是本技术第二实施例的立体外观示意图。 图5是本技术第二实施例的使用状态示意图。 标号说明 载体l、la 套接部ll 组接部12a 清洁单元2 凹弧部21 致动机构3、3a 电子组件具体实施方式 请参阅图1及图2所示，分别为本技术第一实施例的立体外观示意图及本技术第一实施例的剖面状态示意图。如图所示本技术为一种清洁结构，其至少由载体1以及数清洁单元2所构成，而该载体1与各清洁单元2可依所需以复合材料、海绵、PU、聚乙烯醇(PVA)或高分子材料一体成型制成。 上述所提的载体1呈圆筒状，且其中央处具有套接部11。 各清洁单元2分别布设于该载体1的外侧缘，而各清洁单元2的端面分别具有一 凹弧部21，且各凹弧部21的曲率介于70% 99%之间，其中各清洁单元2可为圆柱体或为 多边体。 请参阅图3所示，是本技术第一实施例的使用状态示意图。如图所示当运用 时，可使一个或数个载体1利用其套接部11与相关的致动机构3结合，使该致动机构3以 滚动的方式带动该载体l，并依所需的清洁状态及位置移动该致动机构3，使载体1外侧缘 的各清洁单元2与相关精密电子组件4的表面接触进行所需的清洁，而由于各清洁单元2 端面所设凹弧部21的曲率介于70% 99%之间，因此，可于各清洁单元2使用时达到接触 面大、清洁效率快以及去除脏污率高的功效。 请参阅图4及图5所示，分别为本技术第二实施例的立体外观示意图及本实 用新型第二实施例的使用状态示意图。如图所示本技术除上述第一实施例所提结构 型态之外，亦可将该载体la设为圆盘状，使各清洁单元2分别布设于该载体la的一面上， 且该载体la的另一面上可设有组接部12a，而各清洁单元2可为圆柱体与多边体。 当使用时，利用载体la上的组接部12a与相关的致动机构3a结合，使该致动机构 3a以旋转方式带动该载体la，并依所需的清洁状态及位置移动该致动机构3a，使载体a 1 外侧缘的各清洁单元2与相关精密电子组件4的表面接触进行所需的清洁，如此，除可运用 于不同的致动机构3a及不同的清洁方式之外，同样可达到上述第一实施例所提的功效。 综上所述，本技术清洁结构可有效改善现有技术的种种缺点，可配合相关的 致动机构运用于精密电子组件的表面清洁，使各清洁单元利用其端面凹弧部，而达到接触 面大、清洁效率快以及去除脏污率高的功效，进而能产生更进步、更实用、更符合使用者的 所须，确已符合本技术专利申请的要件，依法提出专利申请。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种清洁结构，其包括一载体及数清洁单元，该清洁单元分别设于载体的表面上，其特征在于：所述各清洁单元的端面分别具有一凹弧部，且各凹弧部的曲率介于７０％～９９％之间。

【技术特征摘要】
一种清洁结构，其包括一载体及数清洁单元，该清洁单元分别设于载体的表面上，其特征在于所述各清洁单元的端面分别具有一凹弧部，且各凹弧部的曲率介于70％～99％之间。2. 如权利要求l所述的清洁结构，其特征在于所述载体呈圆筒状，其中央处具有一套接部，而各清洁单元分别布设于该载体的外侧缘。3. 如权利要求l所述的清洁结构，其特征在于所述载体呈圆盘状，而各清洁单元分别 布设于该载体的一面上，且该载体的另一面上设有组接部。4. 如权利要求1所述的清洁结构，其特征在于所述载体与各清洁单元由复合材料一 体成型所构...

【专利技术属性】
技术研发人员：顾致安，郑东忠，陈弘佳，
申请(专利权)人：东安开发股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：71[中国|台湾]