【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种晶体硅太阳能电池的氧化处理工艺,属于晶体硅太阳能电池制 造领域。
技术介绍
当今世界,常规能源的持续使用带来了能源紧缺以及环境恶化等一系列经济和 社会问题,发展太阳能电池是解决上述问题的途经之一。因此,世界各国都在积极开发 太阳能电池,而高转换效率、低成本是太阳能电池发展的主要趋势,也是技术研究者追 求的目标。目前,在各类太阳能电池中,晶体硅太阳能电池占了 90%的市场份额,其中单 晶硅电池的转化效率超过了 17%,多晶硅电池转化效率也超过16%。如何在成本追加 不太多的前提下,较大幅度提高光电转化效率是大家关注的目标。其中,选择性发射结 Selective Emitter)是一个非常好的选择,其具体结构是(1)在电极栅线以下及其附近区 域形成重掺杂区,以提高开路电压,降低接触电阻,提高填充因子;(2)在非栅线区域 形成浅掺杂区,以获得较好的表面钝化效果,提高短波响应和载流子收集率,从而提高 短路电流。现有的晶体硅太阳能电池选择性发射结的制备方法主要是两次扩散工艺。两次 扩散工艺主要是先在晶体硅片绒面上生长扩散掩膜,再蚀刻开槽出电极栅线区域,然后 通过两次热扩散(重扩散和轻扩散)形成重掺杂和浅掺杂的结构。其中,在晶体硅片绒 面上生长扩散掩膜一般采用干氧氧化工艺,即在硅片表面制备一层二氧化硅膜作为选择 性扩散的掩蔽膜。对于干氧氧化工艺,氧分子以扩散的方式通过氧化层到达二氧化硅一 硅表面,与硅发生反应,生成一定厚度的二氧化硅层。然而,现有的干氧氧化速率很慢,需要在氧化管内高温900 1200°C持续2小时 以上,同时大流量的通入干氧,才能得 ...
【技术保护点】
一种晶体硅太阳能电池的氧化处理工艺,其特征在于,包括如下步骤:(1)升温干氧预氧化:将硅片推入氧化管中,升温至850~900℃,通入干氧,进行氧化反应,在硅片表面生成一层二氧化硅层;反应时间为100~600s,干氧流量为8~30L/min;(2)高温掺氯氧化:继续通入干氧,升温至900~950℃,通入三氯乙烷,携带三氯乙烷的氮气流量为0.5~2.5L/min,干氧流量为8~30L/min,持续1500~2500s;(3)恒温推进氧化:保持步骤(2)的温度,停止通三氯乙烷,继续通入干氧,持续300~800s;干氧流量为8~30L/min;(4)降温,停止通干氧,将硅片退出氧化管。
【技术特征摘要】
1. 一种晶体硅太阳能电池的氧化处理工艺,其特征在于,包括如下步骤(1)升温干氧预氧化将硅片推入氧化管中,升温至850 900°C,通入干氧,进行 氧化反应,在硅片表面生成一层二氧化硅层;反应时间为100 600s,干氧流量为8 30L/min ;(2)高温掺氯氧化继续通入干氧,升温至900 95...
【专利技术属性】
技术研发人员:党继东,王虎,辛国军,章灵军,
申请(专利权)人:苏州阿特斯阳光电力科技有限公司,阿特斯中国投资有限公司,
类型:发明
国别省市:32[中国|江苏]
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