微型光谱仪制造技术

技术编号:5109392 阅读:290 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种微型光谱仪,可量测发光装置的光学频谱信号,或借助光源照射待测物质并进入微型光谱仪后,利用不同物质对光谱不同波段的反射、吸收或穿透光谱的不同,可检测出待测物质的原子、分子等的能阶结构、化学键性质等多方面物质结构的知识,进而得以辨认物质,本实用新型专利技术主要是于光谱仪内部,成型有一个以上的杂散光消除装置,以提升光谱仪的检测效率及准确率。(*该技术在2019年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

一种微型光谱仪,用以检测发光装置的光学频谱信号,或以光谱进行物质的组成 成份分析,本技术尤指一种于内部成型有一个杂散光消除装置的微型光谱仪。
技术介绍
物质的组成,通常可以用诸多的方法将其分解、离析,以了解其组成的成分,例如 矿石的组成、水源所包含的化合物等,上述的分解、离析等,都属于破坏性的检测,一般是依 需求进行必要的检测过程,而光谱仪,则是属于一种非破坏性的检测仪器,其主要是利用光 反射的原理,以及物质内组成结构对光不同频段的反射、吸收或穿透程度不同的差异,按照 波长排列,不同物质会显现个别特征的光谱,进而得到物质的原子、分子等的能阶结构、化 学键性质等多方面物质结构的知识,进而得以辨认物质的组成成分及特性;而上述所称的 光谱仪,随着科技的发展及演进,目前市场上已具有诸多的类型,常见的如绕射式分光仪、 干涉式分光仪等;如上,无论是绕射式或干涉式光谱仪,大多具有体积庞大、系统复杂、造价 昂贵等特性,如何微小化、集成化、量产化成为最大的课题;而目前,市场上已有出现微型化 后的光谱仪器,其主要是利用改变光栅的制作方法以提高解析度及良率,并以微机电技术 开发光、机、电等元件,解决微小空间及元件所造成的组装公差及解析度下降等问题,如上, 微型光谱仪的概念,即在以最小光学路径内实现分光与聚焦的功能,进而简化系统架构,降 低元件数量与组装成本,然而,设计及整合的过程中,也相对面临了莫大的挑战,例如光学 架构扁平化,机械设计与组装难度提高、小空间内杂散光的避免与信号光的收集问题。请参阅图1,图中所示为一现有光线路径示意图,如图中所示,一入射狭缝装置 20,组设于一光通道201的前端,且入射狭缝装置20的一端,组设有一发光装置30,当发光 装置30所产生的光线Wl,通过入射狭缝装置20后,即形成一入射光线W2 ;又,如图中所示, 入射光线W2呈球面波的形式在光通道201中前进,当所述的入射光线W2在光通道中接触 到一平面(如图中所示的2011)、或一反射面,则入射光线W2因折射或反射作用,而形成一 折射光线W3(或反射光线);在上述的光谱仪器中,是于光通道201中组设有一光栅,以使 入射光线W2在抵达光栅后,可反射至一线型检测器,由线型检测器获取所有的反射光,以 转换成光谱,然而,理想上,入射光线W2应依所称的光通道201全数抵达光栅后产生折射, 但实际上,因为入射光线W2经入射狭缝装置20后以球面波形式行进,故,部份的光经折射 后,会形成所述的杂散光,若杂散光过多,则光谱所呈现的数据将会受到严重的杂讯影响, 故,在现有的光谱仪中,会在光通道中成型有数个杂散光消除装置,其主要作用,是使杂散 光在产生后,可借助杂散光消除装置,使杂散光受到阻挡,进而产生偏向的反射或折射,使 其在反射或折射的过程中耗尽,如此,虽可达到提升消除杂散光的有效性,然而,由于所述 的消除杂散光装置成型于光通道之中,其加工具有极大的不便之处,再者,必需正确计算及 预估出杂散光的折射路径,也为相当的繁复及困难,且,在光谱仪微型化后,上述的加工作 业则显得尤为困难。
技术实现思路
有鉴于上述的问题,本设计人依据多年来从事相关产品设计的经验,针对微型光 谱仪的组成、架构,进行相关研究及分析,以期能找出更为适合的解决方案,以有效的处理 小空间内部产生的杂散光问题;因此,本技术主要的目的在于提供一种可有效消除光 谱仪内部空间的杂散光,以提升信号光的收集效率的微型光谱仪。为达上述的目的,本技术主要在于一微型光谱仪的组成结构中,成型有一可 消除杂散光的除光部,使光路径本身具有消除杂散光的功效,如此,当微型光谱仪工作时, 其在光路径因折射、反射所产生的杂散光,可受除光部有效消弭,以提升微型光谱仪的光谱 信号的对杂讯比值,进而使检测效率及准确度提升。本技术的一种微型光谱仪,连接至一发光装置,使该发光装置所产生的光源 进入该微型光谱仪后,检测一物质的组成的成分,其采用技术手段为,其包括—底座体,形成一容置空间,该容置空间内成型有一入射光通道及一反射光通道, 该入射光通道及该反射光通道呈相连通;一上反射片及一下反射片,上、下叠设组构于该入 射光通道与该反射光通道之中,该上、下反射片之间形成一间隙;该入射光通道前端组设有 一入射狭缝装置,该发光装置可连接于该入射狭缝装置,使该发光装置所产生的光源,可经 由该入射狭缝装置进入至该入射光通道,以形成一入射光;一反射型微型光栅,组设于该入 射光通道与该反射光通道的衔接处,使该入射光反射后形成一反射光;一线型检测器,组设 于该反射光通道末端,供以检测该反射型微型光栅所反射而出的该反射光的波长;以及一 除光部,成型于该入射光通道及该反射光通道的侧部。本技术的有益技术效果在于本技术主要于入射光通道与反射光通道 中,成型有一除光部,而所称的除光部,成型有一呈斜面状的折射面,以使杂散光离开主要 的光通道后,经由所述的折射面折射而出,且无法再回到主要的光通道中,有效的消除光线 在经过入射光通道与反射光通道时所产生的杂散光,以确保线型检测器所检测的各光波长 的准确率;据此,本技术其据以实施后,确实可以达到提供一种可有效消除光谱仪内部 空间的杂散光,以提升信号光的收集效率的微型光谱仪的目的。为使本技术的组成、架构及其实施的功效能被进一步了解,以下配合附图及 实施方式详细说明,请参阅。附图说明图1为现有的光线路径示意图。图2为本技术的构件组成示意图。图3为本技术的实施示意图。图4为除光部的剖切放大示意图。图5为本技术构件的放大示意图。主要元件符号说明10微型光谱仪101底座体1011容置空间1012入射光通道1013反射光通道1014反射型微型光栅1015除光部10151折射面1016上反射片1017下反射片1018光通道10181 出口106垫片1061导光面102入射狭缝装置103线型检测器 104盖体105发光装置20入射狭缝装置 20 l光通道 2011平面30发光装置al入射光a2反射光 a3反射光dl间隙Ll光线Ll’杂散光 wl光线w2入射光线w3折射光线具体实施方式 请参阅图2,图中所示为本技术的构件组成示意图,如图中所示的微型光谱仪lo,其主要是由一底座体lol形成一容置空间1011,在此容置空间1011内部,成型有一入射光通道lol2、一反射光通道lol3,且入射光通道lol2与反射光通道lol3呈相连通,又,所述的入射光通道lol2与反射光通道lol3,组设有一上反射片以及一下反射片(本图中尚未绘示),而所述的上反射片及下反射片之间,组设有数个垫片106,以使两者之间形成一间隙(本图未示,请参阅图3),另,在入射光通道lol2与反射光通道lol3的衔接处,组设有一反射型微型光栅lol4,所称的反射型微型光栅lol4则以凹型光栅为较佳;又,沿入射光通道lol2及反射光通道lol3的一侧,成型有一可消除杂散光的除光部lol5,此所称的除光部lol5,可使入射光及反射光在经过入射光通道lol2及反射光通道lol3的过程中所产生的杂散光,受到有效的消弭;再请参阅图中所示,在入射光通道lol2的前端,组设有一入射狭缝装置102,以及在反射光通道lol3的末本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种微型光谱仪,连接至一个发光装置,其特征在于包括:一个底座体,形成一个容置空间,该容置空间内成型有一个入射光通道及一个反射光通道,该入射光通道及该反射光通道呈相连通;一个上反射片及一个下反射片,上、下叠设组构于该入射光通道与该反射光通道之中,该上、下反射片之间形成一个间隙;该入射光通道前端组设有一个入射狭缝装置,该发光装置连接于该入射狭缝装置,使该发光装置所产生的光线,通过该入射狭缝装置进入至该入射光通道,以形成入射光;一个反射型微型光栅,组设于该入射光通道与该反射光通道的衔接处,使该入射光反射后形成反射光;一个线型检测器,组设于该反射光通道末端,用以检测该反射型微型光栅所反射而出的该反射光的波长;以及一个除光部,成型于该入射光通道及该反射光通道的侧部。

【技术特征摘要】
一种微型光谱仪,连接至一个发光装置,其特征在于包括一个底座体,形成一个容置空间,该容置空间内成型有一个入射光通道及一个反射光通道,该入射光通道及该反射光通道呈相连通;一个上反射片及一个下反射片,上、下叠设组构于该入射光通道与该反射光通道之中,该上、下反射片之间形成一个间隙;该入射光通道前端组设有一个入射狭缝装置,该发光装置连接于该入射狭缝装置,使该发光装置所产生的光线,通过该入射狭缝装置进入至该入射光通道,以形成入射光;一个反射型微型光栅,组设于该入射光通道与该反射光通道的衔接处,使该入射光反射后形成反射光;一个线型检测器,组设于该反射...

【专利技术属性】
技术研发人员:张添登郑伯庭
申请(专利权)人:长裕欣业股份有限公司
类型:实用新型
国别省市:71[中国|台湾]

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