用于加工粒状材料的装置以及操作该装置的方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种用于加工粒状材料的装置（１０），具有容器（１２），所述容器具有底部（１４），高架的且从下向上扩大的壁（１６）以及在上部区域中的偏转元件（１８），以使沿着壁（１６）向上运动的材料在它的运动方向上如此转向，使得它能够重新返回到底部（１４），其中至少壁（１６）能被驱动绕着垂直的旋转轴（２２）旋转。在容器（１２）的上部区域中至少存在一个容器元件（３０、３２），其能被驱动以与高架壁（１６）相同的方向，但以较小的转速绕着垂直旋转轴（２２）旋转。而且还描述了装置（１０）的操作方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于加工粒状材料的装置，具有容器，所述容器具有底部，高架的且从下向上扩大的壁以及在上部区域中的偏转元件，以使沿着壁向上升高的材料在它的运动方向上如此转向，使得它能够重新返回到底部，其中至少壁能被驱动绕着垂直的旋转轴旋转。本专利技术还涉及一种用于操作这样装置的方法。
技术介绍
从WO 00/10699中已知在开始所述类型的装置和方法。那里描述了一种装置，用于以涂覆介质加工粒状材料，特别用于药品、食品、技术或化学的成形产品的涂敷。一种这样的装置例如应用于药品、化学品、糖果或者食品工业中。在药品工业中，通过糖衣制造药品，其涂敷糖浆。通过薄膜涂敷，或者也称为薄膜涂布，制造涂敷药片或者涂层药片，应理解为以聚合物涂敷药品。在已知的装置中，粒状材料注入到容器中并且通过容器的旋转在连续循环的运动中沿着底部和高架旋转的容器壁从下部区域运动到容器的上部区域，在容器上部区域中通过偏转元件的偏转并且沿着内部的与第一容器壁径向隔开的返回表面重新落回到容器的同样旋转的底部。设有多个导向叶片的偏转元件与容器壁固定地连接并且相应的与容器的壁一起以相同的转速旋转。从DE 101 04 184 A1中已知另一个这种类型的装置。与上述已知装置的区别在于，用于将粒状材料返回到容器底部的返回表面设置在可设置旋转的高架壁的外部。同样这种已知装置的容器在它的上部区域具有偏转元件，为了使通过高架壁旋转沿着壁向上上升的材料在它的运动方向如此偏转，使得它能够沿着设置在径向外部的返回表面返回到容器的底部。在这种已知的装置中，偏转元件是静止的，也就是说在粒状材料的循环运动期间不旋转。在两个上述已知的装置情况下，在偏转元件的区域中产生下列问题。如果偏转元件与容器的高架壁一起旋转，在所述壁上的粒状材料由于壁的旋转而上升，那么由于通过偏转元件旋转作用在材料颗粒上的高离心力，材料颗粒运动的反转是不充分的，所以材料颗能够在偏转元件处堵塞。在这种情况下应该考虑，材料颗粒应该在偏转元件的区域中进行约180°运动的反转，但是另一方面在容器的壁的上部区域中存在高的动能并且通过另外垂直向上设置的组件沿离心方向具有高的动量。如果另一方面，如在上述的另一个已知的装置中，偏转元件是静止的，虽然在偏转元件的区域中不存在颗粒堵塞的问题，但是当材料颗粒从容器的旋转的壁到偏转元件时由于非常高的速度差材料颗粒受到极大的磨损，这能够损坏要被加工的材料颗粒。因此，在一些情况下，粒状材料的加工结果，例如进行涂覆介质加工，不令人满意。上述的问题，一方面在偏转元件区域中颗粒堵塞和另一方面在偏转元件的区域中材料颗粒的磨损和损坏主要发生在这样的装置中，它们被设计用于加工大批的粒状材料。这样装置相应地具有大尺寸的容器，它的高架旋转壁在上部区域具有相应的大直径。随着旋转壁的上部区域直径的增加，材料颗粒的动能或者轨道速度仍然增加，从而在偏转元件的区域中特别受到在一种情况下的磨损力和在另一种情况下的堵塞作用。
技术实现思路
因此本专利技术的任务在于，进一步改进在开始所述类型的装置和方法，以便一方面获得粒状材料的相同的循环运动而无需在偏转元件处密封材料，并且另一方面由于在偏转元件的区域中的磨损力减小而获得改善的加工结果。根据本专利技术，关于开始所述的装置这样实现上述任务，在容器的上部区域中存在至少一个容器元件，其被驱动以与高架壁相同的方向，但以较小的转速绕着垂直旋转轴旋转。关于开始所述的用于操作这样装置的方法这样实现上述任务，至少一个容器元件被设置成以比壁的转速小的转速旋转。根据本专利技术提供的容器元件使得粒状材料对偏转元件的相对速度可以被这样调节，使得它一方面小于在具有静态偏转元件的已知装置的相对速度，另一方面高于另一种已知装置的相对速度，在该已知装置中具有与容器的旋转壁以相同的速度一起旋转的偏转元件。根据本专利技术提供的容器元件吸收材料颗粒的部分动能或者动量，也就是使它们减速，所以粒状材料在偏转元件处可靠地偏转并且没有磨损作用，所以能够重新返回到底部。容器元件在这种情况下能够以不同的方式实现，如关于优选的实施例如下文所述。根据本专利技术的装置可以不设有返回表面，设有设置在壁里面的返回表面或者设置在壁外面的返回表面，如在现有技术中所述。在一个优选的结构中，至少一个容器元件是偏转元件它自己。在根据本专利技术装置的这个结构中，偏转元件因此同样绕着垂直的旋转轴旋转，但转速小于容器旋转壁的转速。通过该措施，粒状材料在偏转元件处具有相对偏转元件的相对速度，其一方面足够小以减小或避免粒状材料的磨损，另一方面足够大以避免在偏转元件处的粒状材料的堵塞，也就是说，可靠地确保粒状材料在偏转元件处在它的运动方向上轻轻且连续地偏转，因此它能够重新返回到底部。在另一个优选的结构中，至少一个容器元件是至少一个邻接偏转元件的壁部分。在这种结构的情况下，因此在偏转元件和容器的壁之间存在至少一个壁部分，其以与容器的壁相同的方向旋转，但是转速比壁小，所以在粒状材料到达偏转元件之前，部分动能已经从粒状材料传递到该壁部分上，从而关于偏转元件的相对速度能够同样以这种方式减小以减小或者避免磨损。也可以存在两个或多个这样的壁部分，例如在非常大量容器的情况下。在另一个优选的结构中，不仅偏转元件而且至少一个壁部分被驱动绕着垂直旋转轴旋转，其中壁部分的转速可以调节为小于壁的转速的值，并且其中偏转元件的转速可以调节为小于壁部分的转速的值。在用于操作该装置的方法中，可以相应地设置，壁部分的转速可以调节为小于壁的转速的值，并且偏转元件的转速可以调节为小于壁部分的转速的值。这种结构具有特别的优点，在容器的上部区域中获得粒状材料的轨道速度的多级降低，这导致在偏转元件处粒状材料的运动学上特别有利的并且同时仍然轻缓的偏转。在该装置的另一种优选的结构中，至少一个容器元件的转速可以调节为一个值，所述值位于壁的转速的从约10％至80％的范围，优选地位于壁转速的从约20％至60％的范围。在该方法中相应地优选设置，设置至少一个容器元件以一个转速旋转，所述转速位于壁的转速的从约10％至80％的范围，优选地位于壁转速的从约20％至60％的范围。关于在偏转元件处的材料的轻轻且运动学上有利的偏转的希望的作用，在至少一个容器元件和容器的旋转壁之间的相对速度的所述范围是有利的，该范围基于偏转元件它自己和/或至少一个容器元件和/或不仅偏转元件而且壁部分。在该装置的另一个优选的结构中，至少一个容器元件的转速可以调节为这样一个值，使得在壁和容器元件的相邻的区域之间的轨道速度差位于从约0.5至3m/s的范围或者从约0.9至2m/s的范围。关于该方法，相应优选地，如果至少一个容器元件的转速可以调节为这样一个值，使得在壁和容器元件的相邻的区域之间的轨道速度差位于从约0.5至3m/s的范围或者从约0.9至2m/s的范围。在材料颗粒的轨道速度差的范围中当从旋转壁转化到容器元件上时，例如旋转的偏转元件和/或至少一个壁部分，可以观察到，在偏转元件处磨损作用和堵塞作用被减小直到消除的程度。在该装置的另一个优选的结构中，在容器的壁的里面或外面设置有用于将材料返回到容器底部的从上向下变窄的返回表面。如在已知装置中，该措施具有如下的优点，粒状材料从容器的上部区域到容器的下部区域的返回一方面远离这时候沿着旋转壁向上移动的材料而发本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于加工粒状材料的装置，具有容器（１２），所述容器具有底部（１４），高架的且从下向上扩大的壁（１６）以及在上部区域中的偏转元件（１８），以使沿着壁（１６）向上运动的材料在它的运动方向上如此转向，使得它能够重新返回到底部（１４），其中至少壁（１６）能被驱动绕着垂直的旋转轴（２２）旋转，其特征在于，在容器（１２）的上部区域中存在至少一个容器元件（３０、３２），其能被驱动以与高架壁（１６）相同的方向，但以较小的转速绕着垂直旋转轴（２２）旋转。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：赫伯特许特林，沃尔夫冈许特林，凯科赫，克里斯蒂安托施卡，
申请(专利权)人：迪奥斯纳迪克斯和泽内有限公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]