【技术实现步骤摘要】
本技术属于区熔晶体生长设备,尤其是涉及一种区熔用保温筒及设有该保温筒的区熔炉。
技术介绍
1、在区熔硅单晶的生产过程中,为了维持均匀的温度梯度,促进单晶高质量生长,在区熔炉内设置保温筒,维持熔融区的温度。在现有技术中,保温筒通常为单层的筒体结构,由铜制成。生产大直径单晶时,采用现有的保温筒,保温效果较差,散热较快,易造成热量损失,由于单晶直径较大,使得单晶中心和外围之间产生较大的温度梯度,造成单晶热应力分布不均匀,易导致单晶发生位错或者断棱。
技术实现思路
1、为解决上述技术问题,本技术提供一种区熔用保温筒及设有该保温筒的区熔炉,有效的解决了保温筒保温效果较差、易造成热量损失的问题,克服了现有技术的不足。
2、本技术采用的技术方案是:一种区熔用保温筒,包括筒状本体,所述筒状本体的外侧设有支撑层,所述筒状本体的内侧设有隔离层,所述支撑层和隔离层之间设有保温层。
3、进一步,所述保温层设置为单层结构。
4、进一步,所述保温层设置为多层结构。
5、
...【技术保护点】
1.一种区熔用保温筒,包括筒状本体,其特征在于:所述筒状本体的外侧设有支撑层,所述筒状本体的内侧设有隔离层,所述支撑层和隔离层之间设有保温层,所述支撑层外部设有冷却水路。
2.根据权利要求1所述的一种区熔用保温筒,其特征在于:所述保温层设置为单层结构。
3.根据权利要求1所述的一种区熔用保温筒,其特征在于:所述保温层设置为多层结构。
4.根据权利要求3所述的一种区熔用保温筒,其特征在于:所述保温层设置为双层结构,包括第一保温层和第二保温层,所述第一保温层靠近所述隔离层设置,所述第二保温层靠近所述支撑层设置。
5.根据权利
...【技术特征摘要】
1.一种区熔用保温筒,包括筒状本体,其特征在于:所述筒状本体的外侧设有支撑层,所述筒状本体的内侧设有隔离层,所述支撑层和隔离层之间设有保温层,所述支撑层外部设有冷却水路。
2.根据权利要求1所述的一种区熔用保温筒,其特征在于:所述保温层设置为单层结构。
3.根据权利要求1所述的一种区熔用保温筒,其特征在于:所述保温层设置为多层结构。
4.根据权利要求3所述的一种区熔用保温筒,其特征在于:所述保温层设置为双层结构,包括第一保温层和第二保温层,所述第一保温层靠近所述隔离层设置,所...
【专利技术属性】
技术研发人员:王晓,李小龙,王遵义,刘坤,布帅波,叶舒剑,
申请(专利权)人:天津中环领先材料技术有限公司,
类型:新型
国别省市:
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