一种表面自清洁喷淋盘自动化喷涂装置制造方法及图纸

技术编号：46601279 阅读：0 留言：0更新日期：2025-10-10 21:32

本发明专利技术公开了一种表面自清洁喷淋盘自动化喷涂装置，本发明专利技术涉及喷射装置技术领域，该喷涂装置包括箱体、总控模块、加热模块、搬运机械臂、涂显机构、旋转机构和夹持卡盘，箱体上设有柜门和转孔，涂显机构包括三轴位移模块和清理机构，清理机构包括底座，旋转机构包括底柱和驱动电机，柜门设有两组，总控模块、加热模块、搬运机械臂、三轴位移模块、底座、驱动电机均与箱体固定连接，夹持卡盘与搬运机械臂固定连接，底柱与转孔转动连接，加热模块、搬运机械臂、涂显机构、驱动电机均与总控模块通过电信号连接；本发明专利技术自动涂胶显影晶圆，显影液毫秒级内覆盖，避免线宽偏差和大液滴冲击晶圆破坏图形，避免显影斑点和彗星尾缺陷，提升晶圆制造精度。

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【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及喷射装置，具体是一种表面自清洁喷淋盘自动化喷涂装置。

技术介绍

1、在半导体制造领域，喷涂工艺作为薄膜沉积技术的重要分支，通过精确调控流体力学参数与热力学条件，在硅片或其他衬底表面形成厚度均一、成分可控的功能薄膜。其工艺稳定性直接影响半导体器件的电学性能与可靠性。作为喷涂工艺的核心执行部件，喷淋盘通过精密流道设计与喷头阵列布局，实现液态或气态化学品的层流分布与定量输送，其均匀性与可控性参数直接关联光刻图形的尺寸精度与制造良率。

2、随着半导体特征尺寸持续微缩，对光刻工艺的分辨率与套刻精度提出更高要求。在显影喷淋制程中，因晶圆表面流体边界层效应引发的边缘与中心显影速率差异，导致关键尺寸均匀性偏差；大液滴冲击产生的动能破坏光刻胶图案结构，而残留液滴或雾化不均则形成显影缺陷。这些因素共同制约光刻胶图形的转移精度，成为影响半导体器件性能与量产良率的关键瓶颈。

技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种表面自清洁喷淋盘自动化喷涂装置，以解决现有技术中的问题。

>2、为实现上述目的本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种表面自清洁喷淋盘自动化喷涂装置，其特征在于：所述喷涂装置包括箱体（1）、总控模块（2）、加热模块（3）、搬运机械臂（4）、涂显机构（5）、旋转机构（6）和夹持卡盘（7），所述箱体（1）上设有柜门（11）和转孔（12），所述涂显机构（5）包括三轴位移模块（51）和清理机构（54），所述清理机构（54）包括底座（541），所述旋转机构（6）包括底柱（62）和驱动电机（63），所述柜门（11）设有两组，所述总控模块（2）、加热模块（3）、搬运机械臂（4）、三轴位移模块（51）、底座（541）、驱动电机（63）均与箱体（1）固定连接，所述夹持卡盘（7）与搬运机械臂（4）固定连接，所述底柱...

【技术特征摘要】

2.根据权利要求1所述的一种表面自清洁喷淋盘自动化喷涂装置，其特征在于：所述涂显机构（5）还包括滴胶喷嘴（52）和喷淋机构（53），所述喷淋机构（53）包括外壳（55）和导流机构（58），所述外壳（55）上设有顶孔（551），所述导流机构（58）包括喷头杆（581），所述滴胶喷嘴（52）与三轴位移模块（51）固定连接，所述喷头杆（581）与三轴位移模块（51）、顶孔（551）均固定连接。

3.根据权利要求2所述的一种表面自清洁喷淋盘自动化喷涂装置，其特征在于：所述喷淋机构（53）还包括喷淋孔盘（56）、红外探头（57）和回流机构（59），所述外壳（55）上还设有侧孔（552），所述导流机构（58）还包括铰接架（582）和扇叶板（584），所述回流机构（59）包括环管（591）和液管（592），所述喷淋孔盘（56）、红外探头（57）、铰接架（582）均与外壳（55）固定连接，所述液管（592）与侧孔（552）固定连接，所述环管（591）与扇叶板（584）接触。

4.根据权利要求3所述的一种表面自清洁喷淋盘自动化喷涂装置，其特征在于：所述导流机构（58）还包括伺服电机（583）和万向连杆（585），所述伺服电机（583）、扇叶板（584）、万向连杆（585）均设有若干组，若干组所述伺服电机（583）、扇叶板（584）、万向...

【专利技术属性】
技术研发人员：严彬，朱燕娟，刘烽，
申请(专利权)人：芯禾科技江苏有限公司，
类型：发明
国别省市：

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