一种参考像元结构及红外探测器制造技术

本发明专利技术提供一种参考像元结构及红外探测器，涉及红外探测技术领域，该参考像元结构通过在遮挡层开孔来消除牺牲层并保证遮光效果，从而降低衬底温度及焦耳温升带来的影响。参考像元结构包括：基底、参考像元、遮挡层和遮挡支撑结构；参考像元设置在基底上；遮挡层设于参考像元背离基底的一侧；遮挡支撑结构设于参考像元的外侧；遮挡支撑结构与遮挡层的边缘连接，以支撑遮挡层；其中，遮挡层靠近遮挡支撑结构的区域设置有多个通孔，且多个通孔向基底的厚度方向上的投影与参考像元中的部分或全部参考像元向基底的厚度方向上的投影相错开。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及红外探测，尤其涉及一种参考像元结构及红外探测器。

技术介绍

1、随着现代科技的快速发展，非制冷红外焦平面探测器广泛应用于多个领域，现有非制冷红外焦平面阵列探测器通常由有效像元阵列以及参考像元组成。

2、在非制冷红外探测器的参考像元设计中，牺牲层技术是一种常见且重要的工艺手段。牺牲层通常是在制造参考像元的早期阶段沉积的临时结构层，其主要作用是在后续工艺步骤中为其他结构的形成提供支撑。

3、然而，现有技术中采用牺牲层的作用是保证参考像元与有效像元阻值相同，同时不受感光影响，但因为有牺牲层，焦耳热很快导走，从而使得参考像元与有效像元存在热性能上的差异。

技术实现思路

1、本专利技术提供一种参考像元结构及红外探测器，该参考像元结构通过在遮挡层开孔来消除牺牲层并保证遮光效果，从而降低衬底温度及焦耳温升带来的影响。

2、第一方面，本申请提供了一种参考像元结构。参考像元结构包括：基底、参考像元、遮挡层和遮挡支撑结构；参考像元设置在基底上；遮挡层设于参考像元背离基底的一侧；遮挡支本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种参考像元结构，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的参考像元结构，其特征在于，所述通孔包括：第一通孔；所述参考像元包括：第一参考像元和第二参考像元；

3.根据权利要求2所述的参考像元结构，其特征在于，所述第一参考像元相比所述第二参考像元更靠近所述遮挡支撑结构；

4.根据权利要求1所述的参考像元结构，其特征在于，所述通孔包括：第一通孔；

5.根据权利要求2或4所述的参考像元结构，其特征在于，所述第一通孔的宽度范围为0.5um～5um。

6.根据权利要求1～4中任一项所述的参考像元结构，其特征在于，所述通孔还包括：第二...

【技术特征摘要】

1.一种参考像元结构，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的参考像元结构，其特征在于，所述通孔包括：第一通孔；所述参考像元包括：第一参考像元和第二参考像元；

3.根据权利要求2所述的参考像元结构，其特征在于，所述第一参考像元相比所述第二参考像元更靠近所述遮挡支撑结构；

4.根据权利要求1所述的参考像元结构，其特征在于，所述通孔包括：第一通孔；

5.根据权利要求2或4所述的参考像元结构，其特征在于，所述第一通孔的宽度范围为0.5um～5um。

6.根据权利要求1～4中任一项所述的参考像元结构，其特征在于，所述通孔还包括：第二通孔；所述参考像元结构还包括：缓冲像元；

7.根据权利要求6所述的参考像元结构，其特征在于，所述第二通孔的宽度范围为2um～10um。

8.根据权利要求1所述的参考像元结构，其特征在于，包括：沿预设方向排列成至少一排的多个参考像元；

9.根据权利要求8所述的参考像元结构，其特征在于，所述遮挡层设有第一组通孔和第二组通孔；

10.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋康力，丁金玲，高跃升，刘小柔，刘建华，
申请(专利权)人：杭州海康微影传感科技有限公司，
类型：发明
国别省市：