一种偏振光谱共聚焦测量装置及测量方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种偏振光谱共聚焦测量装置，包括宽谱光源、偏振片Ⅰ、半透半反镜、偏振透镜、光阑、偏振片Ⅱ和光谱仪，各光学元件采用固定件互相连接；偏振片Ⅰ和偏振片Ⅱ均绕中心光轴旋转；宽谱光源出光平行出射经过偏振片Ⅰ，偏振片Ⅰ透射出的光经过半透半反镜和偏振透镜入射在样品上，样品位于偏振透镜的焦平面上，光阑位于样品反射回光经过偏振透镜后的焦平面上；偏振片Ⅱ紧贴光阑，光谱仪紧贴偏振片Ⅱ。本发明专利技术还提出一种偏振光谱共聚焦测量方法。优点，本发明专利技术，相交于常规共聚焦测量设备，通过旋转偏振片Ⅰ和偏振片Ⅱ，选择或偏振的光，就可以选择两个不同焦距或的量程，使得系统的测量范围扩大。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学测量，具体涉及一种偏振光谱共聚焦测量装置及测量方法。

技术介绍

1、光谱共聚焦技术是一种用于测量样品表面形态学的方法，它利用特殊设计的色散物镜将包含多种波长的复色光按照波长递增或者递减的方式聚焦在光轴上，形成一系列连续的测量点，然后通过光谱仪检测工件表面的聚焦光波，进而转换为对应的高度信息。

2、光谱共焦传感器可实现绝对长度的测量，最高测量分辨率可达纳米级，测量精度保持在几十纳米。由于其较高的分辨率和空间分辨率，光谱共聚焦技术已广泛应用在各种领域的实验中，例如生命科学、纳米技术和半导体制造等。

3、光谱共聚焦技术的发展始于上世纪90年代初，最初是在共聚焦显微镜的基础上结合色散技术建立起来的一种测量技术。此后，研究人员不断对其结构、光学元件、光源以及数据处理算法等方面进行了深入探究和完善，使其成为一种用于三维形状测量、缺陷检测、表面粗糙度测量等多种领域的有效工具。

4、随着科学技术的进步和发展，光谱共聚焦技术也在不断创新和演进，例如引入超连续光谱、多通道探测器等新技术，不断提高测量精度和效率。对于表面起伏本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种偏振光谱共聚焦测量装置，其特征在于，包括宽谱光源（1）、偏振片Ⅰ（2）、半透半反镜（3）、偏振透镜（4）、光阑（5）、偏振片Ⅱ（6）和光谱仪（7），各光学元件采用固定件互相连接；偏振片Ⅰ（2）和偏振片Ⅱ（6）均绕中心光轴旋转；宽谱光源（1）出光平行出射经过偏振片Ⅰ（2），偏振片Ⅰ（2）透射出的光经过半透半反镜（3）和偏振透镜（4）入射在样品（8）上，样品（8）位于偏振透镜（4）的焦平面上，光阑（5）位于样品（8）反射回光经过偏振透镜（4）后的焦平面上；偏振片Ⅱ（6）紧贴光阑（5），光谱仪（7）紧贴偏振片Ⅱ（6）。

2.根据权利要求1所述的偏振光谱共聚焦测量装置，其特征...

【技术特征摘要】

1.一种偏振光谱共聚焦测量装置，其特征在于，包括宽谱光源（1）、偏振片ⅰ（2）、半透半反镜（3）、偏振透镜（4）、光阑（5）、偏振片ⅱ（6）和光谱仪（7），各光学元件采用固定件互相连接；偏振片ⅰ（2）和偏振片ⅱ（6）均绕中心光轴旋转；宽谱光源（1）出光平行出射经过偏振片ⅰ（2），偏振片ⅰ（2）透射出的光经过半透半反镜（3）和偏振透镜（4）入射在样品（8）上，样品（8）位于偏振透镜（4）的焦平面上，光阑（5）位于样品（8）反射回光经过偏振透镜（4）后的焦平面上；偏振片ⅱ（6）紧贴光阑（5），光谱仪（7）紧贴偏振片ⅱ（6）。

2.根据权利要求1所述的偏振光谱共聚焦测量装置，其特征在于，固定件为光学元件支架，各光学元件螺纹连接光学元件支架。

3.根据权利要求1所述的偏振光谱共聚焦测量装置，其特征在于，所述偏振片ⅰ（2）和偏振片ⅱ（6）为吸收型偏振片、利用双折射的偏振分束器、薄膜偏振片或者线栅偏振片；偏振片ⅰ（2）和偏振片ⅱ（6）手动或者电动方式旋转。

4.根据权利要求1所述的偏振光谱共聚焦测量装置，其特征在于，半透半反镜（3）由宽谱透明材料镀介质膜构成，其中宽谱透明材料包括玻璃、石英、氟化钙、蓝宝石或铌酸锂。

5.根据权利要求1所述的偏振光谱共聚焦测量装置，其特征在于，偏振透镜（4）为双折射透镜，双折射透镜为由双折射材料构成的透镜或一组透镜中至少具...

【专利技术属性】
技术研发人员：请求不公布姓名，请求不公布姓名，请求不公布姓名，请求不公布姓名，
申请(专利权)人：南京埃米仪器科技有限公司，
类型：发明
国别省市：