一种选择性沉金板制作方法技术

技术编号:46587887 阅读:0 留言:0更新日期:2025-10-10 21:23
本发明专利技术提供了一种选择性沉金板的制作方法,包括以下步骤:S1、于基板上定义沉金区域和非沉金区域;S2、于步骤S1所述非沉金区域采用丝网印刷的方式涂覆阻焊油墨,经曝光、显影,形成10‑30μm的阻焊层;S3、将形成所述阻焊层的基板于所述沉金区域上进行沉金处理;S4、激光蚀刻所述阻焊层至露出所述非沉金区域;S5、OSP处理所述非沉金区域。本发明专利技术的方法通过丝印10‑30μm的阻焊层,结合特定波长激光的蚀刻,稳定实现30μm线宽/间距设计;结合特定沉金处理控制参数,控制镍层磷含量、沉金时效以及焊接界面腐蚀的效果,根本解决“黑盘”问题;此外,步骤简便,生产周期显著缩短,提高效率,降低成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于印刷线路板,具体涉及一种选择性沉金板制作方法


技术介绍

1、随着pcb产业的高速发展,线路图形设计的集成度越来越高。对于高频信号来讲,对信号传输质量的要求也越来越高,对pcb的结构设计也越来越严格,为保证信号传输质量,镀金工艺板应运而生,电镀镍金技术在线路板表面处理时已有广泛应用。

2、现有的pcb生产的沉金技术中,沉金板上形成沉金区域和非沉金区域,而对于非沉金区域,一般直接采用干膜盖住非沉金区域,再进行沉金工艺处理。例如,中国专利cn105813393b公开了一种选择性沉金板制作方法,在非沉金区域贴干膜,曝光,然后再干膜上采用丝网印刷的方式覆盖一层油墨,该技术中需对覆盖在非沉金区域的干膜进行曝光、退膜,此过程不但需使用价格昂贵的干膜以及抗蚀油墨,且工艺流程长,需依次执行贴干膜(真空条件下120℃高温贴附)、曝光显影、油墨印刷、沉金、两次化学退膜(naoh溶液处理)及osp处理等8个步骤;另外,该专利的方法两次化学退膜,导致化学药液侧蚀,沉金区边界模糊,碱性腐蚀镍层,焊盘微坑,以及药液残留,osp膜附着力下降的问题,影响沉金板品本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种选择性沉金板的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述选择性沉金板制作方法,其特征在于,步骤S3所述沉金处理控制如下:

3.根据权利要求1所述选择性沉金板制作方法,其特征在于,步骤S4所述激光蚀刻采用的激光为波长范围为480nm-580nm的绿光光源、波长范围为280nm-410nm的UV紫光光源、波长范围为750nm-2500nm的CO2光源、波长范围为218nm-299nm的UV深紫光光源中的任意一种。

4.根据权利要求1所述选择性沉金板制作方法,其特征在于,步骤S2中所述阻焊油墨为热固型、光固化型或光敏型。

【技术特征摘要】

1.一种选择性沉金板的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述选择性沉金板制作方法,其特征在于,步骤s3所述沉金处理控制如下:

3.根据权利要求1所述选择性沉金板制作方法,其特征在于,步骤s4所述激光蚀刻采用的激光为波长范围为480nm-580nm...

【专利技术属性】
技术研发人员:晏浩强
申请(专利权)人:珠海晶瓷电子科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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