【技术实现步骤摘要】
本技术涉及光刻机领域，具体是一种具有清理结构的高精度光刻机。
技术介绍
1、光刻机是芯片制造流程中光刻工艺的核心设备。芯片的制造流程极其复杂，而光刻工艺是制造流程中最关键的一步，光刻确定了芯片的关键尺寸，在整个芯片的制造过程中约占据了整体制造成本的35％。光刻工艺是将掩膜版上的几何图形转移到晶圆表面的光刻胶上。
2、申请号201620887356.6，公开了一种光刻机，包括工作平台、plc控制系统、曝光装置，x轴滑动平台与z轴滑动平台通过滑动槽连接，x轴滑动平台和z轴滑动平台分别与电机连接，实现平移，曝光装置设置在x轴靠后位置，曝光装置与电机连接，实现调节曝光装置与x轴的夹角，托盘与电机连接，曲面产品放置在托盘上，用设置在托盘的夹角固定。
3、以上对比文件中的光刻机缺少清理构件，在光刻机的使用过程中，产生的碎屑无法清理，堆积的碎屑会导致光刻机无法正常使用，需要人工对碎屑进行清理，针对上述情况，我们推出了一种具有清理结构的高精度光刻机。
技术实现思路
1、本技术的目的...
【技术保护点】
1.一种具有清理结构的高精度光刻机，其特征在于：其包括
2.根据权利要求1所述的一种具有清理结构的高精度光刻机，其特征在于：所述工作台(11)上端可拆卸的布设有多个基板(12)，所述基板(12)上端面均匀设置有多个通孔，所述工作台(11)上端设置有支撑框架(13)。
3.根据权利要求1所述的一种具有清理结构的高精度光刻机，其特征在于：所述第一支架(21)底部对称设置有垫块(22)，所述第一支架(21)一侧面布设有竖板(23)，所述竖板(23)一侧面设置有第一液压气缸(24)。
4.根据权利要求3所述的一种具有清理结构的高精度光刻机，...
【技术特征摘要】
1.一种具有清理结构的高精度光刻机，其特征在于：其包括
2.根据权利要求1所述的一种具有清理结构的高精度光刻机，其特征在于：所述工作台(11)上端可拆卸的布设有多个基板(12)，所述基板(12)上端面均匀设置有多个通孔，所述工作台(11)上端设置有支撑框架(13)。
3.根据权利要求1所述的一种具有清理结构的高精度光刻机，其特征在于：所述第一支架(21)底部对称设置有垫块(22)，所述第一支架(21)一侧面布设有竖板(23)，所述竖板(23)一侧面设置有第一液压气缸(24)。
4.根据权利要求3所述的一种具有清理结构的高精度光刻机，其特征在于：所述第一液压气缸(24)底部输出端设置有一横板(25)，所述横板(25)一侧面布设有连接板(26)，所述连接板(26)一端可拆卸的设置有光源(27)。
5.根据权利要求1所述的一种具有清理结构的高精度光刻机，其特征在于：所述支撑板(31)一侧面可拆卸的布设有第一电机(32)，所述支撑板(31)上端设置有传送带(33)，所述支撑板(31)一侧面设置有第二液压气缸(34)，...
【专利技术属性】
技术研发人员：窦海斌，周跃，
申请(专利权)人：泰州市子拓光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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