【技术实现步骤摘要】
本技术涉及光刻胶生产,尤其涉及一种光刻胶生产回收结构。
技术介绍
1、光刻胶是一种光致抗蚀剂,一般通过紫外光、电子束等的照射或辐射的方式完成加工,在光刻工艺的过程中,光刻胶是一种抗腐蚀涂层材料,在半导体材料的表面进行加工时,选用适当的光刻胶,可以在表面得到所需的图像。
2、现有公开号为cn219209131u的文件,公开了一种光刻胶生产回收结构,包括主体机构、回收机构和清扫机构,所述回收机构位于主体机构的内部,所述清扫机构位于回收机构的上方,所述主体机构包括箱体、支撑柱、密封盖、拉手和控制面板,所述支撑柱固定安装在箱体的上端,所述密封盖活动安装在箱体上端的后端,所述拉手固定安装在密封盖上端的前端,所述控制面板固定安装在箱体前端的中部,所述回收机构包括过滤仓、储液仓、进液口、过滤板、回型固定块、沉槽、过滤长桶、凹型固定块、过滤网、出液口和调节阀。该光刻胶生产回收结构,便于将附着在过滤板上的污染物清除,解决污染物堵塞过滤板的情况,减少更换过滤板的频率。
3、该装置内使用功能平面的过滤板和过滤网对光刻胶中的杂物进行过滤
...【技术保护点】
1.一种光刻胶生产回收结构,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的一种光刻胶生产回收结构,其特征在于,所述第二过滤件(7)的底部安装电机(11)。
3.根据权利要求2所述的一种光刻胶生产回收结构,其特征在于,所述电机(11)与所述箱体(1)内壁固定连接。
4.根据权利要求1所述的一种光刻胶生产回收结构,其特征在于,所述箱体(1)内安装有刮板(12)。
5.根据权利要求4所述的一种光刻胶生产回收结构,其特征在于,所述刮板(12)与所述箱体(1)之间安装电动推杆(13)。
6.根据权利要求1所述的一种光刻胶
...【技术特征摘要】
1.一种光刻胶生产回收结构,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的一种光刻胶生产回收结构,其特征在于,所述第二过滤件(7)的底部安装电机(11)。
3.根据权利要求2所述的一种光刻胶生产回收结构,其特征在于,所述电机(11)与所述箱体(1)内壁固定连接。
4.根据权利要求1所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈峰,朱建华,
申请(专利权)人:明贤电子材料科技南通有限公司,
类型:新型
国别省市:
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