【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于，尤其涉及一种大尺寸光掩膜玻璃基片用精抛设备。
技术介绍
1、光掩膜版，简称掩膜版，是一种透明的玻璃或石英板，其表面涂有一层特殊的光敏胶。经过曝光和显影工艺，掩膜版上的光敏胶能够将设计好的电路图案转移到硅晶圆上，其中，光掩膜在制作时需要制作玻璃基片，玻璃基片在生产完成后需要抛光打磨和精抛后才能得到表面平整光滑的玻璃基片。
2、在大尺寸的光掩膜玻璃基片的精抛工作时，现有技术通常采用研磨设备进行加工，其中现有技术的研磨设备在使用时具有以下缺点，由于需要使用的研磨轮体积较大，因此在精抛时需要对玻璃基片进行大面积冷却散热和清洗，而现有设备采用的冷却装置容易造成冷却液向外喷出的问题，从而造成冷却液的浪费，并且在大面积使用冷却液时，现有技术中无法对冷却液进行快速循环使用，基于此，本专利技术设计了一种大尺寸光掩膜玻璃基片用精抛设备。
技术实现思路
1、本专利技术的目的是解决现有技术中的问题，而提出的一种大尺寸光掩膜玻璃基片用精抛设备。
2、一种大尺寸光掩膜玻璃基片用...
【技术保护点】
1.一种大尺寸光掩膜玻璃基片用精抛设备，其特征在于，包括以下部分：
2.根据权利要求1所述大尺寸光掩膜玻璃基片用精抛设备，其特征在于，所述弧形板(6)包括两个分板(61)，两个所述分板(61)组合组成弧形板(6)，两个所述分板(61)共同通过连接块(62)安装至一起，所述连接块(62)的底部连接有支架杆(63)，所述支架杆(63)连接至清扫附件(7)。
3.根据权利要求2所述大尺寸光掩膜玻璃基片用精抛设备，其特征在于，所述清扫附件(7)包括扇形板(71)，所述扇形板(71)可拆卸连接至加工台(2)侧面设置的环形台(72)，所述环形台(72)连接...
【技术特征摘要】
1.一种大尺寸光掩膜玻璃基片用精抛设备，其特征在于，包括以下部分：
2.根据权利要求1所述大尺寸光掩膜玻璃基片用精抛设备，其特征在于，所述弧形板(6)包括两个分板(61)，两个所述分板(61)组合组成弧形板(6)，两个所述分板(61)共同通过连接块(62)安装至一起，所述连接块(62)的底部连接有支架杆(63)，所述支架杆(63)连接至清扫附件(7)。
3.根据权利要求2所述大尺寸光掩膜玻璃基片用精抛设备，其特征在于，所述清扫附件(7)包括扇形板(71)，所述扇形板(71)可拆卸连接至加工台(2)侧面设置的环形台(72)，所述环形台(72)连接至机箱(9)中设置的驱动电机中，所述扇形板(71)底部设置有用于清扫圆环形通道(34)底部的清刷层(73)，所述围挡(33)的侧面设置有用于排出圆环形通道(34)中废液的回收管(74)。
4.根据权利要求1所述大尺寸光掩膜玻璃基片用精抛设备，其特征在于，所述转动组件(8)包括设置在围挡(33)顶部的肩部(81)，所述肩部(81)为圆环形结构并且宽度大于围挡(33)的厚度，所述肩部(81)的上端面开设有环形槽(82)，所述环形槽(82)中设置有连接环(83)，所述弧形槽(82)的横截面设置为“t”形结构并包括上侧部分和下侧部分，所述上侧部分的宽度大于下侧部分，所述连接环(83)转动连接在所述上侧部分，所述下侧部分的底部连接至进液管(51)。
5.根据权利要求4所述大尺寸光掩膜玻璃基片用精抛设备，其特征在于，所述冷却组件(5...
【专利技术属性】
技术研发人员：张鹏飞，颜春李，王兴波，巩玉朋，刘运华，
申请(专利权)人：安徽精石技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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