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本发明公开了一种大尺寸光掩膜玻璃基片用精抛设备，涉及玻璃基片研磨领域，包括底座和加工台，所述加工台的顶部设有吸附垫；研磨组件，其中包括研磨盘，用于研磨玻璃基片；围挡，设置于加工台的外侧，用于防护和承接冷却液；冷却组件，用于研磨盘研磨玻璃基片...
该专利属于安徽精石技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安徽精石技术有限公司授权不得商用。

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