【技术实现步骤摘要】
本技术涉及晶片清洗，具体为一种用于晶片抛光的清洗装置。
技术介绍
1、晶片是led最主要的原物料之一，是led的发光部件，led最核心的部分，加工的时候对表面进行抛光处理，抛光后进行清洗处理；
2、例如公告号为cn204107908u的中国专利（一种用于晶片抛光机的清洗装置）：包括安装座，安装座中活动穿设有进水管，进水管的顶端设置有弯管接头，弯管接头的另一端通过伸缩调节密封机构设置有喷淋管，使得喷淋管可以在弯管接头中伸缩而不漏水，并且，喷淋管上设置有若干喷淋头；所述的安装座包括：水平布置的安装板、以及设置有安装板底面上的至少一块沿垂直方向布置的立板，其中的一块立板上设置有减速电机，减速电机的输出轴上设置有主动齿轮，所述的进水管活动穿设在安装板中，进水管上设置有与主动齿轮相配合的从动齿轮。该清洗装置尤其适用于加装在晶片抛光机上。
3、但是，现有晶片抛光后清洗多数都是放在水池中清洗，水污染和浪费严重，并且导致清洗不干净；因此，不满足现有的需求，对此我们提出了一种用于晶片抛光的清洗装置。
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【技术保护点】
1.一种用于晶片抛光的清洗装置，包括水箱（1），其特征在于：所述水箱（1）的内部中心处设置有防护套（21），缩水防护套（21）的上端设置有摆放组件（3），所述水箱（1）的一侧设置有清洗组件（2），所述水箱（1）靠近底端的前表面设置有出水口（4），所述清洗组件（2）的一侧通过进水管（5）外接上水装置。
2.根据权利要求1所述的一种用于晶片抛光的清洗装置，其特征在于：所述摆放组件（3）包括摆放板（6），所述摆放板（6）的上表面设置有摆放槽（7），且摆放槽（7）设置有多个，所述摆放槽（7）的一侧设置有拿取缺口（8），所述摆放槽（7）的下表面设置有透水孔（9），且...
【技术特征摘要】
1.一种用于晶片抛光的清洗装置，包括水箱（1），其特征在于：所述水箱（1）的内部中心处设置有防护套（21），缩水防护套（21）的上端设置有摆放组件（3），所述水箱（1）的一侧设置有清洗组件（2），所述水箱（1）靠近底端的前表面设置有出水口（4），所述清洗组件（2）的一侧通过进水管（5）外接上水装置。
2.根据权利要求1所述的一种用于晶片抛光的清洗装置，其特征在于：所述摆放组件（3）包括摆放板（6），所述摆放板（6）的上表面设置有摆放槽（7），且摆放槽（7）设置有多个，所述摆放槽（7）的一侧设置有拿取缺口（8），所述摆放槽（7）的下表面设置有透水孔（9），且透水孔（9）贯穿摆放板（6）。
3.根据权利要求2所述的一种用于晶片抛光的清洗装置，其特征在于：所述摆放组件（3）还包括变频电机（10），且变频电机（10）位于防护套（21）内部，所述变频电机（10）的两端均设置有电机安装座（11），且变频电机（10）两端通过电机安装座（11）分别与防护套（21）和摆放板（6）固定。
4.根据权利要求1所述的一种用于晶片抛光的清洗装置，其特...
【专利技术属性】
技术研发人员：王鑫，赵俊竹，纪双涛，
申请(专利权)人：青岛嘉星晶电科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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