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本技术公开了一种用于晶片抛光的清洗装置，涉及晶片清洗技术领域，该用于晶片抛光的清洗装置，包括水箱，所述水箱的内部中心处设置有防护套，缩水防护套的上端设置有摆放组件，所述水箱的一侧设置有清洗组件，所述水箱靠近底端的前表面设置有出水口，所述清洗...
该专利属于青岛嘉星晶电科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过青岛嘉星晶电科技股份有限公司授权不得商用。

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