【技术实现步骤摘要】
本技术属于半导体生产设备，具体涉及一种侦测装置及半导体生产设备。
技术介绍
1、在半导体的某些生产设备中，需要利用隔离机构在必要的时候对不同的工艺区域进行隔离，以减少不同工艺区域产生的气、雾掺混所造成的污染。隔离机构还能够在产品例如晶圆在不同的工艺区域之间流转时打开。
2、实际中通常在生产设备上设置侦测装置来对隔离机构的状态进行监测，以确保隔离机构根据需要对不同的工艺区域进行隔离或解除隔离。常用的侦测装置是光电传感器，例如回归反射型光电传感器，或透射型光电传感器。然而这些传感器在应用过程中容易受到工艺区域产生的烟气、雾气的干扰，导致监测结果不准确。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种侦测装置及半导体生产设备，旨在减少设备中的烟气和/或雾气对侦测装置的干扰，提高监测准确性。
2、为实现上述目的，本技术提供了一种侦测装置，包括：
3、探测机构，包括第一结构件和第二结构件；所述第一结构件和所述第二结构件沿预设方向间隔排布，并分别位于预设位置的相对两侧；...
【技术保护点】
1.一种侦测装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的侦测装置，其特征在于，所述气体喷射部设置在所述预设位置靠近所述第一结构件或所述第二结构件的一侧；所述气体喷射部的数量为至少一个，且所述气体喷射部的轴线的延伸方向相对于所述预设方向倾斜。
3.根据权利要求1所述的侦测装置，其特征在于，所述吹扫机构还包括两个吹扫管段，两个所述吹扫管段设置在所述第一结构件和所述第二结构件的同一侧，并均沿所述预设方向延伸；两个所述吹扫管段分别位于所述预设位置的相对两侧；所述气体喷射部的数量为多个，多个所述气体喷射部分别设置在两个所述吹扫管段朝向所述光信号的传...
【技术特征摘要】
1.一种侦测装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的侦测装置，其特征在于，所述气体喷射部设置在所述预设位置靠近所述第一结构件或所述第二结构件的一侧；所述气体喷射部的数量为至少一个，且所述气体喷射部的轴线的延伸方向相对于所述预设方向倾斜。
3.根据权利要求1所述的侦测装置，其特征在于，所述吹扫机构还包括两个吹扫管段，两个所述吹扫管段设置在所述第一结构件和所述第二结构件的同一侧，并均沿所述预设方向延伸；两个所述吹扫管段分别位于所述预设位置的相对两侧；所述气体喷射部的数量为多个，多个所述气体喷射部分别设置在两个所述吹扫管段朝向所述光信号的传输路径的一侧，并沿所述预设方向间隔排布。
4.根据权利要求3所述的侦测装置，其特征在于，所述气体喷射部的轴线的延伸方向与所述预...
【专利技术属性】
技术研发人员：王皓，阚保国，陈伏宏，钱东，顾保荣，姚俊龙，蔡嘉辉，
申请(专利权)人：荣芯半导体宁波有限公司，
类型：新型
国别省市：
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