一种半导体芯片表面缺陷检测方法及系统技术方案

技术编号:46572365 阅读:1 留言:0更新日期:2025-10-10 21:18
本发明专利技术属于半导体芯片检测技术领域,本发明专利技术提供了一种半导体芯片表面缺陷检测方法及系统,包括:采集半导体芯片的芯片图像整合为芯片图像序列,并识别芯片图像内的疑似缺陷区域,在芯片图像序列内疑似缺陷区域进行匹配得到匹配组,根据匹配组判断疑似缺陷区域是否为真实缺陷区域,若是,对真实缺陷区域进行截取得到缺陷图像序列,构建并训练缺陷识别模型,对缺陷图像序列进行表面缺陷类型的识别,并评估识别的准确性,若准确性低,则触发融合缺陷复核分析,若触发融合缺陷复核分析,根据缺陷图像序列在半导体芯片上定位实际缺陷位置区域,采集并处理得到实际缺陷位置区域的融合特征,采用图神经网络识别得到实际表面缺陷类型。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于半导体芯片检测,具体地说是一种半导体芯片表面缺陷检测方法及系统


技术介绍

1、半导体芯片作为现代电子设备的核心组件,其质量直接决定了电子设备的性能与可靠性。在半导体芯片的制造过程中,由于生产工艺的复杂性、原材料的纯度要求以及生产环境的微小波动等因素,芯片表面可能会出现各种缺陷,如划痕、颗粒污染、晶格畸变等,这些表面缺陷不仅会影响芯片的电气性能,导致芯片功能异常,还会降低芯片的良品率,增加生产成本。因此,对半导体芯片表面缺陷进行准确、高效的检测,对于保证芯片质量、提高生产效率和降低生产成本具有重要意义。

2、在现有的半导体芯片表面缺陷检测方法中,通常首先采集芯片图像,然后对图像进行分析以识别缺陷区域,然而,由于芯片表面本身存在一些自然纹理、噪声干扰以及图像采集过程中的光照不均等因素,容易导致误判,这不仅增加了后续处理的数据量,降低了检测效率,还可能导致对真实缺陷区域的关注度降低,影响缺陷检测的准确性。

3、另一方面,现有技术在表面缺陷类型识别方面也存在一定的局限性,样本不平衡问题突出,导致传统的缺陷识别模型可能无法充分本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种半导体芯片表面缺陷检测方法,其特征在于:包括:

2.根据权利要求1所述的一种半导体芯片表面缺陷检测方法,其特征在于:所述疑似缺陷区域的识别方式为:

3.根据权利要求2所述的一种半导体芯片表面缺陷检测方法,其特征在于:所述像素点图像差值的获取方式为:

4.根据权利要求1所述的一种半导体芯片表面缺陷检测方法,其特征在于:所述疑似缺陷区域是否为真实缺陷区域的判断方式为:

5.根据权利要求4所述的一种半导体芯片表面缺陷检测方法,其特征在于:所述匹配组的获取方式为:

6.根据权利要求5所述的一种半导体芯片表面缺陷检测方法,其特征在...

【技术特征摘要】

1.一种半导体芯片表面缺陷检测方法,其特征在于:包括:

2.根据权利要求1所述的一种半导体芯片表面缺陷检测方法,其特征在于:所述疑似缺陷区域的识别方式为:

3.根据权利要求2所述的一种半导体芯片表面缺陷检测方法,其特征在于:所述像素点图像差值的获取方式为:

4.根据权利要求1所述的一种半导体芯片表面缺陷检测方法,其特征在于:所述疑似缺陷区域是否为真实缺陷区域的判断方式为:

5.根据权利要求4所述的一种半导体芯片表面缺陷检测方法,其特征在于:所述匹配组的获取方式为:

6.根据权利要求5...

【专利技术属性】
技术研发人员:徐立君韩文智徐屹进莫鑫凯陈森达刘昶君任建航
申请(专利权)人:苏州弘皓光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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