【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种用于静电吸盘的装置，特别涉及一种用于真空环境的取膜滚压装置。
技术介绍
1、静电吸盘作为半导体制造的核心部件，具有吸附力稳定、温度可控且能均匀传递热量、对晶圆污染小、可用于高真空和等离子环境等优点，被广泛应用于蚀刻、离子注入、物理气相沉积和化学气相沉积等制造工艺。
2、静电吸盘可分为陶瓷电极层、加热层和基底层；其中，加热层由铝基板、加热膜、铝基板与加热膜之间的胶水层构成，它保证了晶圆表面温度的可控性和均匀性。设计一种用于真空环境的取膜滚压装置是十分有必要的。
3、因此，特别需要一种用于真空环境的取膜滚压装置，以解决上述现有存在的问题。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种用于真空环境的取膜滚压装置，针对现有技术的不足，用于真空环境中铝基板与加热膜之间的紧密粘接，减少粘接中气泡的产生以及杂质的混入，保证胶水层厚度的稳定性以及铝基板和加热膜之间的粘接性，结构新颖，构思巧妙。
2、本技术所解决的技术问题可以采用以下技术方案来实现：
<...【技术保护点】
1.一种用于真空环境的取膜滚压装置，其特征在于，包括支架主体，所述支架主体的左右两侧各设有一对称的轨迹定位轴，所述轨迹定位轴通过拉簧连接，所述轨迹定位轴在设定的轨迹中运动；所述支架主体连接有旋转轴，所述旋转轴位于所述轨迹定位轴的下方，所述旋转轴的一端与电动夹爪固定板连接，所述旋转轴的另一端与第二深沟球滚珠轴承连接；所述电动夹爪固定板上固定有用于抓取薄膜的电动夹爪；所述支架主体的下方设置有电动直线模组，所述电动直线模组与滚筒支架相互连接。
2.如权利要求1所述的用于真空环境的取膜滚压装置，其特征在于，所述滚筒支架上设有第一加强筋和第二加强筋。
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【技术特征摘要】
1.一种用于真空环境的取膜滚压装置，其特征在于，包括支架主体，所述支架主体的左右两侧各设有一对称的轨迹定位轴，所述轨迹定位轴通过拉簧连接，所述轨迹定位轴在设定的轨迹中运动；所述支架主体连接有旋转轴，所述旋转轴位于所述轨迹定位轴的下方，所述旋转轴的一端与电动夹爪固定板连接，所述旋转轴的另一端与第二深沟球滚珠轴承连接；所述电动夹爪固定板上固定有用于抓取薄膜的电动夹爪；所述支架主体的下方设置有电动直线模组，所述电动直线模组与滚筒支架相互连接。
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【专利技术属性】
技术研发人员：华佳栋，林燕雪，李连兴，王宁，
申请(专利权)人：无锡纳斯凯半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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