【技术实现步骤摘要】
本公开涉及半导体装置。
技术介绍
1、以往,公知有具备mosfet(metal oxide semiconductor field effecttransistor,金属氧化物半导体场效应晶体管)、igbt(insulated gate bipolartransistor,绝缘栅双极晶体管)等电力用开关元件的半导体装置。这样的半导体装置搭载于从工业设备至家电、信息终端、汽车用设备的所有电子设备。在专利文献1中公开了以往的半导体装置(功率模块)。专利文献1所记载的半导体装置具备半导体元件、以及支撑基板(陶瓷基板)。半导体元件例如是si(硅)制的igbt。支撑基板支撑半导体元件。支撑基板包含绝缘性的基体材料和层叠于基体材料的两面的导体层。基体材料例如由陶瓷构成。各导体层例如由cu(铜)构成,在一方的导体层接合有半导体元件。
2、现有技术文献
3、专利文献
4、专利文献1:日本特开2021-190505号公报
技术实现思路
1、专利技术所要解决的课题
< ...【技术保护点】
1.一种半导体装置,其特征在于,具备:
2.根据权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,
3.根据权利要求2所述的半导体装置,其特征在于,
4.根据权利要求2所述的半导体装置,其特征在于,
5.根据权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,
6.根据权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,
7.根据权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,
8.根据权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,
9.根据权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,
10.根据权利要求1所述的
...【技术特征摘要】
1.一种半导体装置,其特征在于,具备:
2.根据权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,
3.根据权利要求2所述的半导体装置,其特征在于,
4.根据权利要求2所述的半导体装置,其特征在于,
5.根据权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,
6.根据权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,
7.根据权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,
8.根据权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,
9.根据权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,
10.根据权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,
11.根据权利要求1~10中任一项所述的半导体装置,其特征在于,
12.根据权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,
13.根据权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,
14.根据权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,
15.一种半导体装置的制造方法,该半导体装置具备:支撑基板,其具有朝向厚度方向的一方侧的主面;至少一个半导体元件,其配置在上述主面上;至少一个控制端子,其用于控制上述至少一个半导体元件;控制端子支撑体,其在上述厚度方向上介于上述支撑基板与上述至少一个...
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