复合电极及其制备方法和太阳电池技术

技术编号:46471684 阅读:4 留言:0更新日期:2025-09-23 22:32
本申请涉及一种复合电极及其制备方法和太阳电池。复合电极的制备方法包括:在衬底的表面制备导电连接层,在导电连接层的表面通过物理气相沉积的方式制备缓冲层,在缓冲层的表面制备导电金属层。对导电金属层进行图案化处理,去除部分导电金属层,得到图案化的导电金属层。使刻蚀液由导电金属层的镂空区域经过缓冲层渗入至导电连接层以对导电连接层进行刻蚀处理,刻蚀部分导电连接层,并使导电金属层的镂空区域和导电连接层的镂空区域之间保留缓冲层,得到图案化的导电连接层。去除导电金属层的镂空区域和导电连接层的镂空区域之间的缓冲层,得到图案化的缓冲层。制备方法可以减少蚀刻液刻蚀的次数,降低刻蚀液对产品带来额外损伤的风险。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及复合电极,尤其是涉及一种复合电极及其制备方法和太阳电池


技术介绍

1、在制备复合电极的过程中,通常需要先在衬底上依次制备功能层,由于各功能层之间具有较好的附着力,因此往往需要采用湿法刻蚀的方式来对各功能层进行图案化处理。即,采用不同的刻蚀液对复合电极由外到内的各个功能层进行刻蚀,以得到相应图案化的功能层。在这样的刻蚀方式中,刻蚀次数较多,需要较为频繁的更换刻蚀液,并且不同的刻蚀液对复合电极产品具有不同的影响,因此在依次刻蚀各功能层的过程中可能会带来给产品带来额外的损伤。


技术实现思路

1、基于此,有必要提供一种复合电极及其制备方法。通过所述复合电极的制备方法制备复合电极时,可以减少刻蚀液的刻蚀次数,降低刻蚀液对复合电极带来额外损伤的风险。

2、一种复合电极的制备方法,包括如下步骤:在衬底的表面制备导电连接层,在所述导电连接层的表面通过物理气相沉积的方式制备缓冲层,在所述缓冲层的表面制备导电金属层。对所述导电金属层进行图案化处理,去除部分所述导电金属层,得到图案化的导电金属层。使刻蚀液由本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种复合电极的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的复合电极的制备方法,其特征在于,所述刻蚀处理的时间为35s~50s。

3.根据权利要求1所述的复合电极的制备方法,其特征在于,采用超声波处理的方式去除所述导电金属层的镂空区域和所述导电连接层的镂空区域之间的所述缓冲层。

4.根据权利要求3所述的复合电极的制备方法,其特征在于,所述超声波处理和所述刻蚀处理同步进行。

5.根据权利要求1所述的复合电极的制备方法,其特征在于,所述缓冲层的厚度为0.1nm~20nm。

6.根据权利要求1所述的复合电极的制备方...

【技术特征摘要】

1.一种复合电极的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的复合电极的制备方法,其特征在于,所述刻蚀处理的时间为35s~50s。

3.根据权利要求1所述的复合电极的制备方法,其特征在于,采用超声波处理的方式去除所述导电金属层的镂空区域和所述导电连接层的镂空区域之间的所述缓冲层。

4.根据权利要求3所述的复合电极的制备方法,其特征在于,所述超声波处理和所述刻蚀处理同步进行。

5.根据权利要求1所述的复合电极的制备方法,其特征在于,所述缓冲层的厚度为0.1nm~20nm。

6.根据权利要求1所述的复合电极的制备方法,其特征在于,所述导电连接层的厚度为20nm~1000nm;和/或,

7.根据权利要求1~6中任一项所述的复合电极的制备方法,其特征在于,制备所述缓冲层时,对所述衬底进...

【专利技术属性】
技术研发人员:程吉霖孟夏杰余斌
申请(专利权)人:通威太阳能成都有限公司
类型:发明
国别省市:

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