一种绑定旋转靶材以及用于绑定该靶材的密封组件制造技术

技术编号:46395983 阅读:5 留言:0更新日期:2025-09-16 19:48
本技术涉及靶材生产技术领域,尤其涉及一种绑定旋转靶材以及用于绑定该靶材的密封组件。包括背管,所述背管的外部套设有至少两个靶管,所述背管和靶管之间设置有绑定层,相邻的靶管之间设置有膨胀缝,所述膨胀缝处设置有密封环,所述密封环套设在背管的外部,所述密封环的外径等于靶管的内径,所述密封环的内径等于背管的外径,所述密封环的材质为聚四氟乙烯。本技术上的绑定层不会被溅射出来,从而不会使薄膜质量下降。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及靶材生产,尤其涉及一种绑定旋转靶材以及用于绑定该靶材的密封组件


技术介绍

1、镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。简单的说,靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料。靶材按形状分类可分为平面靶材和旋转靶材,其中旋转靶材的利用率较高,且可以承受更大的溅射功率,所以溅射效率更高。

2、现有技术的绑定旋转靶材,包括背管,背管外部套设有多个靶管,背管和靶管之间设置有绑定层(一般为低熔点金属铟,具有良好的导电和导热性),相邻的靶管之间设置有约0.5毫米的膨胀缝,膨胀缝处的背管上也有绑定层,在开始溅射时由于靶管较厚绑定层距离靶管外壁较远,等离子体难以到达膨胀缝中的绑定层处,不会将绑定层溅射出来,在溅射时间较长靶管较薄时,绑定层距离靶管的外壁近了很多,等离子体容易到达膨胀缝中的绑定层处,从而将绑定层溅射出来,而溅射出来的绑定层材料也会沉积在薄膜中,导致薄膜质量下降。


技术实现思路

1、本技术所要解决的技术问题,是针对上述存在的技术不足本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种绑定旋转靶材,包括背管(1),所述背管(1)的外部套设有至少两个靶管(2),所述背管(1)和靶管(2)之间设置有绑定层(3),相邻的靶管(2)之间设置有膨胀缝,其特征在于:所述膨胀缝处设置有密封环(41),所述密封环(41)套设在背管(1)的外部,所述密封环(41)的外径等于靶管(2)的内径,所述密封环(41)的内径等于背管(1)的外径,所述密封环(41)的厚度等于膨胀缝的宽度,所述密封环(41)的材质为聚四氟乙烯。

2.用于绑定权利要求1所述的绑定旋转靶材的密封组件,其特征在于:包括密封环(41)和可拆卸定位环(42),所述可拆卸定位环(42)的内径等于密封环(41...

【技术特征摘要】

1.一种绑定旋转靶材,包括背管(1),所述背管(1)的外部套设有至少两个靶管(2),所述背管(1)和靶管(2)之间设置有绑定层(3),相邻的靶管(2)之间设置有膨胀缝,其特征在于:所述膨胀缝处设置有密封环(41),所述密封环(41)套设在背管(1)的外部,所述密封环(41)的外径等于靶管(2)的内径,所述密封环(41)的内径等于背管(1)的外径,所述密封环(41)的厚度等于膨胀缝的宽度,所述密封环(41)的材质为聚四氟乙烯。

2.用于绑定权利要求1所述的绑定旋转靶材的密封组件,其特...

【专利技术属性】
技术研发人员:施玉良徐文斌王海琴
申请(专利权)人:盐城法柯特科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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