【技术实现步骤摘要】
本申请涉及电子测量仪器,特别是涉及一种射频电源控制器。
技术介绍
1、在半导体工艺设备中,射频电源(rf电源)通常用于刻蚀设备和薄膜沉积设备等中产生稳定的高频电场,以激励等离子体反应,实现材料的精确刻蚀和沉积。由于在各个不同的工艺步骤中,负载阻抗会发生变化,当rf电源与负载之间的匹配网络不太匹配时,发射功率会反射回电源,从而引起电缆发热,严重时会损坏射频电源元器件。所以,需要经常地、频繁地对rf电源的发射功率和反射功率进行测量。
2、因此,提供一款小巧便捷的射频电源控制器,来满足对rf电源进行上述测量的频繁性需求是至关重要的。
技术实现思路
1、有鉴于此,本申请实施例为解决
技术介绍
中存在的至少一个问题而提供一种射频电源控制器。
2、本申请实施例提供一种射频电源控制器,所述射频电源控制器包括:
3、调节模块,用于调节并输出第一信号;所述第一信号包括一设定电压信息、以及与该设定电压信息对应的开时长信息和关时长信息;
4、单片机模块,与所述调节模块
...【技术保护点】
1.一种射频电源控制器,其特征在于,所述射频电源控制器包括:
2.根据权利要求1所述的射频电源控制器,其特征在于,所述射频电源控制器还包括以下至少一项:
3.根据权利要求2所述的射频电源控制器,其特征在于,
4.根据权利要求1所述的射频电源控制器,其特征在于,所述射频电源控制器还包括:
5.根据权利要求4所述的射频电源控制器,其特征在于,所述信号隔离模块包括:
6.根据权利要求1所述的射频电源控制器,其特征在于,
7.根据权利要求1所述的射频电源控制器,其特征在于,
8.根据权利要求1
...【技术特征摘要】
1.一种射频电源控制器,其特征在于,所述射频电源控制器包括:
2.根据权利要求1所述的射频电源控制器,其特征在于,所述射频电源控制器还包括以下至少一项:
3.根据权利要求2所述的射频电源控制器,其特征在于,
4.根据权利要求1所述的射频电源控制器,其特征在于,所述射频电源控制器还包括:
5.根据权利要求4所述的射频电源控制器,其特征在于,所述信号隔离模块包...
【专利技术属性】
技术研发人员:邵飚,
申请(专利权)人:芯联集成电路制造股份有限公司,
类型:新型
国别省市:
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