一种新型Piston制造工艺制造技术

本发明专利技术一种新型Piston制造工艺，属于滤波器件领域，具体工艺如下：步骤S1、提供衬底并清洗，为后续光刻做准备；步骤S2、IDT光刻胶涂布、曝光、显影，PR胶呈现对应叉指形貌；步骤S3、沉积IDT金属层；步骤S4、在IDT金属层上，继续进行第二层光刻胶涂布、曝光、显影，在IDT叉指末端形成包含Piston结构的长条状形貌；步骤S5、沉积Piston金属层；步骤S6、采用Lift‑off工艺，形成IDT‑Piston凸起结构。本发明专利技术利用真空蒸镀Piston金属，竖直方向上直接实现IDT‑Piston凸起结构“一体化”，简化了工艺流程，节约了成本，改善了滤波器性能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于滤波器件领域，具体涉及一种新型piston制造工艺。

技术介绍

1、传统piston工艺是先在衬底上形成idt叉指图形，然后idt叉指图形上采用光刻胶涂布、曝光、显影工艺，在idt叉指末端形成矩形图形，然后在光刻胶上蒸镀piston金属，最后采用lift-off工艺去除光刻胶，在idt叉指末端叠加一金属小块，即piston形貌。

2、现有的这种piston形貌的金属块与idt形成的凸起结构非一体化制备的。考虑到光刻工艺对位偏差及本身的开窗线宽差异性，idt线条竖直方向上两金属形貌边缘无法完全对齐，致使杂波抑制非最优解。

技术实现思路

1、本专利技术针对现有idt和piston二次成型导致piston金属无法对齐的问题，提出一种新型piston制造工艺。该专利技术利用真空蒸镀piston金属，竖直方向上直接实现idt-piston凸起结构“一体化”，简化了工艺流程，节约了成本，改善了滤波器性能。

2、为了实现上述目的，本专利技术通过以下技术方案予以实现：一种新型piston本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种新型Piston制造工艺，其特征在于：按照以下步骤进行：

2.根据权利要求1所述的一种新型Piston制造工艺，其特征在于：所述步骤S3和步骤S5中沉积工艺，采用真空镀膜工艺，或采用真空溅射工艺。

3.根据权利要求1所述的一种新型Piston制造工艺，其特征在于：所述步骤S4中长条状形貌的高度与Piston金属的高度相同。

【技术特征摘要】

1.一种新型piston制造工艺，其特征在于：按照以下步骤进行：

2.根据权利要求1所述的一种新型piston制造工艺，其特征在于：所述步骤s3和步骤s5中沉积工艺，...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏凯飞，武培龙，周忆玥，张星，马晋明，闫冰，白晓波，马晋云，
申请(专利权)人：北纬三十八度集成电路制造有限公司，
类型：发明
国别省市：