【技术实现步骤摘要】
本技术涉及真空升华炉，尤其涉及快速降温的真空升华炉。
技术介绍
1、真空升华炉是一种在真空状态下进行升华处理的设备，主要用于制备高纯度的材料，尤其是那些在其熔点温度下具有相当高蒸气压的固体物质。真空升华炉是一种能够在无氧或减压状态下，通过升华法将固体物质直接转变为气态，再冷凝成固态，从而实现物质提纯的设备，利用真空环境下的低压和无氧状态，降低物质的升华温度，使固体物质在较低的温度下就能发生升华，并通过冷凝收集升华后的纯净物质。这种过程避免了物质在液态下的存在，减少了杂质的混入，从而提高了产品的纯度。
2、真空升华炉是在真空度低于100pa的氛围内，将物料在1100-1400度下升华，降温方式为通过在炉体夹套内通入冷却水进行冷却，在真空的环境下，当真空升华炉内的温度降至400℃以下时，真空升华炉中炉筒内的炉芯降温缓慢，使得冷却时间长达30个小时以上，但是真空升华炉运行过程中，由于反应物料是在高真空环境中(小于100kpa)，高真空下分子碰撞极少，导致热量很难传递，散热较慢，物料只能通过热辐射降温，所以降温很慢，从而会影响真空升...
【技术保护点】
1.快速降温的真空升华炉，包括真空升华炉本体(1)，其特征在于，所述真空升华炉本体(1)的底部设置有用于初步降温的冲氮管(2)，所述真空升华炉本体(1)的外壁设置有用于再次降温的第一降温管道(3)和第二降温管道(4)。
2.根据权利要求1所述的快速降温的真空升华炉，其特征在于，所述真空升华炉本体(1)的底部对称固定连接有用于支撑真空升华炉本体(1)的支撑板(5)。
3.根据权利要求1所述的快速降温的真空升华炉，其特征在于，所述第一降温管道(3)和第二降温管道(4)均呈蛇形状，所述第一降温管道(3)和第二降温管道(4)的内壁均与真空升华炉本体(1
【技术特征摘要】
1.快速降温的真空升华炉，包括真空升华炉本体(1)，其特征在于，所述真空升华炉本体(1)的底部设置有用于初步降温的冲氮管(2)，所述真空升华炉本体(1)的外壁设置有用于再次降温的第一降温管道(3)和第二降温管道(4)。
2.根据权利要求1所述的快速降温的真空升华炉，其特征在于，所述真空升华炉本体(1)的底部对称固定连接有用于支撑真空升华炉本体(1)的支撑板(5)。
3.根据权利要求1所述的快速降温的真空升华炉，其特征在于，所述第一降温管道(3)和第二降温管道(4)均呈蛇形状，所述第一降温管道(3)和第二降温管道(4)的内壁均与真空升华炉本体(1)的外壁相贴。
4.根据权利要求1所述的快速降温的真空升华炉，其特征在于，所述第一降温管道(3)和第二降温管道(4)的一端底部均固定连接有进水管(6)，所述第一降温管道(3)和第二降温管道(4)的另一端底部均固定连接有出水管(7)。
5.根据权利要求1所述的快速降...
【专利技术属性】
技术研发人员：肖茂昌，王磊，刘永久，李彬，孙旭科，夏然强，
申请(专利权)人：山东孚日鸿硅新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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