一种光刻机专用防微震基座制造技术

本发明专利技术涉及光刻机基座技术领域，公开了一种光刻机专用防微震基座，包括：两个水泥基座，还包括：第一水泥壳，位于水泥基座一侧；第一隔离模块，位于第一水泥壳内；下面板，固定在第一水泥壳上方；加筋板件，固定在下面板上方，用于起到支撑的作用；上面板，固定在加筋板件上；本发明专利技术的光刻机防微震基座具备显著防微震效果：上面板与下面板通过垂直分布的加筋板件形成对称结构；加筋板件作为核心减震单元，其上开设的直角槽与锐角槽构成多级震动抑制系统，直角槽利用应力波反射原理改变震动波传导方向，迫使部分震动能量返回原传播介质；锐角槽基于应力波折射理论将震动波向多个方向折射散射，使震动能量向三维空间扩散衰减，形成宽频减震特性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光刻机基座，具体涉及一种光刻机专用防微震基座。

技术介绍

1、光刻机作为半导体制造领域的核心设备，其运行精度直接决定芯片制程的先进程度，而纳米级加工环境对基座的防微震性能提出了极高要求。现有光刻机基座在微震抑制方面普遍面临以下技术瓶颈：

2、传统基座结构多采用单一材料或简单层叠设计，减震机制单一，难以应对运动部件产生的多频段、多方向微震激励。例如，部分基座仅依赖水泥材料的惯性质量减震，虽能通过大质量特性抑制低频震动，但对于10-100hz频段的中高频微震缺乏有效衰减手段，震动能量易通过刚性连接结构直接传递至光学部件，导致成像精度下降。同时，单一材料的阻尼特性有限，无法实现震动能量的多级耗散，尤其在应力波传播路径上缺乏针对性设计，难以通过反射、折射等物理机制改变震动传导方向，导致能量集中现象显著。

3、现有减震结构在力学设计上存在局限性，多数加筋板件仅承担结构支撑功能，未形成系统化的震动抑制单元。例如，常规凹槽或通孔结构仅能实现单一方向的能量反射，无法构建复杂的传导迷宫，对斜向震动波的散射能力不足，导致三维空间内的能量扩本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种光刻机专用防微震基座，包括：两个水泥基座，其特征在于，还包括：

2.根据权利要求1所述的一种光刻机专用防微震基座，其特征在于，所述水泥基座包括：

3.根据权利要求1所述的一种光刻机专用防微震基座，其特征在于，所述第一水泥壳上方开设有第一对接孔；所述下面板开设有第二对接孔，所述第一对接孔与第二对接孔相对接。

4.根据权利要求1所述的一种光刻机专用防微震基座，其特征在于，所述第一隔离模块设置有六个，六个所述第一隔离模块呈两排三列矩阵分布。

5.根据权利要求1所述的一种光刻机专用防微震基座，其特征在于，所述上面板开设有预留槽，所述预留槽开...

【技术特征摘要】

1.一种光刻机专用防微震基座，包括：两个水泥基座，其特征在于，还包括：

2.根据权利要求1所述的一种光刻机专用防微震基座，其特征在于，所述水泥基座包括：

3.根据权利要求1所述的一种光刻机专用防微震基座，其特征在于，所述第一水泥壳上方开设有第一对接孔；所述下面板开设有第二对接孔，所述第一对接孔与第二对接孔相对接。

4.根据权利要求1所述的一种光刻机专用防微震基座，其特征在于，所述第一隔离模块设置有六个，六个所述第一隔离模块呈两排三列矩阵分布。

5.根据权利要求1所述的一种光刻机专用防微震基座，其特征在于，所述上面板开设有预留槽，所述预留槽开设有第一螺纹孔，所述所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：仓琳，
申请(专利权)人：江苏泊苏系统集成有限公司，
类型：发明
国别省市：