晶圆图的生成方法、装置、存储介质及设备制造方法及图纸

技术编号:46042625 阅读:9 留言:0更新日期:2025-08-11 15:34
一种晶圆图的生成方法、装置、存储介质及设备。所述方法包括:获取晶圆上各个晶粒对应的晶粒失效比特测试结果文件;所述晶粒失效比特测试结果文件包含所测试晶粒在晶圆上的物理位置信息;基于所述晶粒失效比特测试结果文件,生成晶圆图。采用上述方案,可以高效生成晶圆图,并降低出错概率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体,具体涉及一种晶圆图的生成方法、装置、存储介质及设备


技术介绍

1、晶圆是制作硅半导体电路所用的硅晶片。将晶圆切割成一个个单独的晶粒(die),再对各个晶粒进行封装,可以得到一块块的芯片。

2、晶圆图(wafer map)记载了晶圆上晶粒的分布信息,晶圆图是追溯产品发生异常原因的重要线索。通过晶圆图进行分析,可以找出发生低良率的可能原因。

3、目前,晶圆图的设计主要是借助excel或者是画图工具,手动绘制晶圆图,效率较低,且易发生错误。


技术实现思路

1、本专利技术要解决的问题是:如何高效生成晶圆图,并降低出错概率。

2、为解决上述问题,本专利技术实施例提供了一种晶圆图的生成方法,所述方法包括:

3、获取晶圆上各个晶粒对应的晶粒失效比特测试结果文件;所述晶粒失效比特测试结果文件包含所测试晶粒在晶圆上的物理位置信息;

4、基于所述晶粒失效比特测试结果文件,生成晶圆图。

5、可选地,所述晶粒失效比特测试结果文件包括:记录本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种晶圆图的生成方法,其特征在于,包括:

2.如权利要求1所述的晶圆图的生成方法,其特征在于,所述晶粒失效比特测试结果文件包括:记录晶粒失效比特测试结果信息的.txt文件。

3.如权利要求2所述的晶圆图的生成方法,其特征在于,还包括:

4.如权利要求1或2所述的晶圆图的生成方法,其特征在于,所述晶粒失效比特测试结果文件包括:显示晶粒失效比特位置的预设格式文件。

5.如权利要求4所述的晶圆图的生成方法,其特征在于,所述预设格式文件为.png文件。

6.如权利要求4所述的晶圆图的生成方法,其特征在于,还包括:

7.如...

【技术特征摘要】

1.一种晶圆图的生成方法,其特征在于,包括:

2.如权利要求1所述的晶圆图的生成方法,其特征在于,所述晶粒失效比特测试结果文件包括:记录晶粒失效比特测试结果信息的.txt文件。

3.如权利要求2所述的晶圆图的生成方法,其特征在于,还包括:

4.如权利要求1或2所述的晶圆图的生成方法,其特征在于,所述晶粒失效比特测试结果文件包括:显示晶粒失效比特位置的预设格式文件。

5.如权利要求4所述的晶圆图的生成方法,其特征在于,所述预设格式文件为.png文件。

6.如权利要求4所述的晶圆图的生成方法,其特征在于,还包括:

7.如权利要求1所述的晶圆图的生成方法,其特征在于,所述晶粒失效比特测试结果文件的文件名中包含所测试晶粒在晶圆上的物理位置...

【专利技术属性】
技术研发人员:黎美玲吴永玉彭浩姚阳光钟佳玲高凯歌
申请(专利权)人:浙江创芯集成电路有限公司
类型:发明
国别省市:

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