【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学分析检测设备,尤其涉及一种在线x射线荧光分析模组及在线x射线荧光分析装置。
技术介绍
1、当制造半导体晶圆时,为了形成微米或纳米等级的精密结构,需要使用各种不同的化学药剂来进行清洗、黄光、电镀及刻蚀等化学工艺过程,以满足高精度及高效度的需求。随着使用时间越久,这些化学药剂经过多次的反应,其内累积的影响反应效率及精度的副产物或杂质等越多,若未能及时更换新的化学药剂,将导致晶圆的不合格率增加,甚至残留在晶圆上造成污染,对产品及制造成本带来不利的影响。
2、然而,目前针对工艺过程中所使用的化学药剂的分析,需要仰赖大量人力在各个生产机台中逐一抽取待测样品,然后运送至实验室的分析仪器进行检测,由于分析仪器每次分析及人为操作仪器的数量有限,且每次分析需耗费一定时间,因此,往往需要排队等待检测,导致检测耗时、人力耗费及检测结果缺乏实时性等问题,无法及时更换新的化学药剂,进而造成材料及成本的不必要的浪费。
技术实现思路
1、为解决上述问题,本专利技术提供一种在线x射线荧光分析
...【技术保护点】
1.一种在线X射线荧光分析模组,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的在线X射线荧光分析模组,其特征在于,还包括分析层,所述分析层设置在所述第一分析孔与所述光学穿透层之间,所述分析层包括第三分析孔。
3.根据权利要求1所述的在线X射线荧光分析模组,其特征在于,所述液体暂存部内限定液体填充腔。
4.根据权利要求3所述的在线X射线荧光分析模组,其特征在于,所述液体暂存部包括:液体入口及液体出口,所述液体出口限定在所述液体暂存部的第一表面,所述液体入口限定在所述液体暂存部的第二表面。
5.根据权利要求4所述的在线X射线荧
...【技术特征摘要】
1.一种在线x射线荧光分析模组,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的在线x射线荧光分析模组,其特征在于,还包括分析层,所述分析层设置在所述第一分析孔与所述光学穿透层之间,所述分析层包括第三分析孔。
3.根据权利要求1所述的在线x射线荧光分析模组,其特征在于,所述液体暂存部内限定液体填充腔。
4.根据权利要求3所述的在线x射线荧光分析模组,其特征在于,所述液体暂存部包括:液体入口及液体出口,所述液体出口限定在所述液体暂存部的第一表面,所述液体入口限定在所述液体暂存部的第二表面。
5.根据权利要求4所述的在线x射线荧光分析模组,其特征在于,所述第一分析孔设置在所述液体暂存部的所述第一表面上。
6.根据权利要求1所述的在线x射线荧光分析模组,...
【专利技术属性】
技术研发人员:张振伟,
申请(专利权)人:汉民科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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