【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于电解铜箔,特别涉及一种具有纳米级氧化锌/石墨烯复合涂层的超厚电解铜箔的制备方法。
技术介绍
1、随着电子技术的发展,特别是高压、高功率设备及高速高频印刷电路板(pcb)的普及,超厚铜箔因其优异的导电性能和大电流承载能力,成为关键基础材料。超厚铜箔通常用于高功率电源模块、大电流传输线路以及散热要求高的电路设计中。
2、其典型应用包括:
3、①电力电子设备:超厚铜箔广泛用于功率逆变器、电源管理模块等,提供稳定的大电流路径。
4、②汽车电子:新能源汽车对动力管理电路的高散热、高功率需求推动了超厚铜箔的应用。
5、然而,超厚铜箔在使用过程中,尤其是在高温、高湿和高电流的工作环境下,暴露出以下问题:
6、①抗氧化性能不足:铜箔表面在高温或高湿条件下容易形成氧化层,增加电阻并导致性能退化。
7、②结合力有限:传统铜箔与树脂基材的附着力较差,容易出现分层现象,影响产品的机械可靠性。
8、③热膨胀引起的尺寸稳定性问题:较大的热膨胀系数导致铜箔在高温下变形,
...【技术保护点】
1.一种具有纳米级氧化锌/石墨烯复合涂层的超厚电解铜箔的制备方法,包括如下步骤:
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述步骤(1)中的超厚电解铜箔厚度在105-210um之间,铜箔毛面粗糙度Rz在4.0-8.0um之间,光面粗糙度Rz在1.0-2.0um之间。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述步骤(1)中的活化预处理具体为:先使用双氧水和稀盐酸的混合溶液对超厚电解铜箔进行浸泡,去除表面杂质;再使用等离子清洗机对超厚电解铜箔进行表面深层清洁和活化;最后使用烘箱对超厚电解铜箔进行烘干。
4.根据权利要求1所
...【技术特征摘要】
1.一种具有纳米级氧化锌/石墨烯复合涂层的超厚电解铜箔的制备方法,包括如下步骤:
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述步骤(1)中的超厚电解铜箔厚度在105-210um之间,铜箔毛面粗糙度rz在4.0-8.0um之间,光面粗糙度rz在1.0-2.0um之间。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述步骤(1)中的活化预处理具体为:先使用双氧水和稀盐酸的混合溶液对超厚电解铜箔进行浸泡,去除表面杂质;再使用等离子清洗机对超厚电解铜箔进行表面深层清洁和活化;最后使用烘箱对超厚电解铜箔进行烘干。
4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述步骤(2)中的氧化石墨烯溶液的制备方法包括:将氧化石墨烯加入乙醇和水的混合溶液中并超声处理,使氧化石墨烯均匀分散,得到氧化石墨烯溶液。
5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述步骤(2)中的硅烷修饰剂为γ-氨丙基三甲氧基硅烷,硅烷修饰剂与氧化石墨烯溶液的体积比为1:(30-50)。
<...【专利技术属性】
技术研发人员:余天赐,朱红波,张杰,杨红光,
申请(专利权)人:九江德福科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。