【技术实现步骤摘要】
本申请涉及mlcc产品测试的,特别是涉及一种mlcc短路品的缺陷位置分析方法。
技术介绍
1、随着电子设备逐渐向小型化、轻量化方向发展,作为高性能电器设备不可缺少的基础元件,片式多层陶瓷电容器(mlcc)广泛应用于电子汽车,通讯设备等电子领域。
2、如图1所示,mlcc是由一系列层状陶瓷薄膜和印刷电极组成的独石电容器。如图2/3所示,mlcc的结构具备特殊性,即电极正对位置与两侧的留边位置存在高度差,因此,mlcc堆叠并烧结完成后,其内部结构留边位置的电极并不会保持平直,而是如图4出现延伸向内弯曲,形成留边区域。留边区的电极位置厚度远小于电极正对位置区域的电极位置厚度,从而导致靠近留边的电极正对位置膜片的薄化缺陷,烧结完成后该区域极易出现短路。
3、在mlcc的膜片堆叠成型过程中,电极延伸弯曲程度与膜片拉伸强度、印刷电极厚度、堆叠工艺、均压工艺等均有较大的关联,因此,当检测到mlcc出现短路品时,需要对短路品内部缺陷进行位置定位分析。
4、在传统的技术中,首先对mlcc进行绝缘电阻(ir)测试,在向m
...【技术保护点】
1.一种MLCC短路品的缺陷位置分析方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的MLCC短路品的缺陷位置分析方法,其特征在于:计算所述缺陷点在MLCC内部的三维空间坐标,包括以下步骤:
3.根据权利要求2所述的MLCC短路品的缺陷位置分析方法,其特征在于,通过空间反演算法计算缺陷点的三维空间坐标的步骤包括:
4.根据权利要求1至3任一项所述的MLCC短路品的缺陷位置分析方法,其特征在于,计算缺陷点的三维空间坐标之后,还包括以下步骤:
5.根据权利要求4所述的MLCC短路品的缺陷位置分析方法,其特征在于
...【技术特征摘要】
1.一种mlcc短路品的缺陷位置分析方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的mlcc短路品的缺陷位置分析方法,其特征在于:计算所述缺陷点在mlcc内部的三维空间坐标,包括以下步骤:
3.根据权利要求2所述的mlcc短路品的缺陷位置分析方法,其特征在于,通过空间反演算法计算缺陷点的三维空间坐标的步骤包括:
4.根据权利要求1至3任一项所述的mlcc短路品的缺陷位置分析方法,其特征在于,计算缺陷点的三维空间坐标之后,还包括以下步骤:
5.根据权利要求4所述的mlcc短路品的缺陷位置分析方法,其特征在于,生成缺陷点的三维空间分布图时,还包括以下...
【专利技术属性】
技术研发人员:李祥兴,黄翔,李荣林,宋进祥,
申请(专利权)人:广东微容电子科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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