一种光学显微镜斜入射物镜制造技术

一种光学显微镜斜入射物镜，涉及一种光学显微镜的物镜。本发明专利技术是要解决现有的显微镜物镜难以满足在非接触式条件下产生面外电场分量，而修改光路的方式功能性又较为单一的技术问题。本发明专利技术的光学显微镜斜入射物镜由像平面至物平面的方向依次排序为圆柱薄片、第一镜组、第二镜组、第三镜组和第四镜组，还包括框架结构。本发明专利技术可缩小入射激光光束束径，可产生具有入射倾角的斜入射激光，在物方焦点处同时产生X、Y和Z三个方向的激发电场分量，包括面外电场和面内电场。本发明专利技术主要用于涉及激光激发的非线性谐波测试，更换本发明专利技术的显微镜物镜即可满足测试，不需要对光路进行调整，通过物镜旋转盘选择不同的物镜可以满足不同的测试需求。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光学显微镜的物镜。

技术介绍

1、在材料科学和凝聚态物理学领域，面外电场(具有面外电场分量的激发激光)对谐波产生及非线性光学研究有重要意义。许多材料在面外电场作用下，其极化特性发生改变，进而影响二阶非线性光学效应，使二次谐波的产生更加显著，为研究材料的对称性、极化特性和晶体结构等提供了重要手段，有助于探索材料的物理机制和性能，为开发新型光电器件和提升光通信系统性能奠定基础。目前能够产生面外电场的方法包括使用高数值孔径(na)的油浸物镜和设计光路使入射激光离轴，其中油浸物镜对材料会产生不可避免的接触污染，产生的面外电场分量较弱；而通过设计光路的方法固然可以获得较高的面外电场分量，但是光路功能性单一，只能满足于一种测试。基于现有的显微镜物镜难以满足在非接触式条件下产生面外电场分量，修改光路的方式功能性又较为单一，因此有必要提供一种显微镜物镜以实现通过更换物镜即可产生面外电场分量的目的。

技术实现思路

1、本专利技术是要解决现有的显微镜物镜难以满足在非接触式条件下产生面外电场分量，而修改光路的方式本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种光学显微镜斜入射物镜，其特征在于光学显微镜斜入射物镜由像平面至物平面的方向依次排序为圆柱薄片(S2)、第一镜组(G1)、第二镜组(G2)、第三镜组(G3)和第四镜组(G4)，还包括框架结构(S1)；

2.根据权利要求1所述的一种光学显微镜斜入射物镜，其特征在于所述的圆柱薄片(S2)为铝合金材质。

3.根据权利要求1所述的一种光学显微镜斜入射物镜，其特征在于第一透镜(L1)的物侧面与第二透镜(L2)的像侧面相互胶合。

4.根据权利要求1所述的一种光学显微镜斜入射物镜，其特征在于第三透镜(L3)的物侧面与第四透镜(L4)的像侧面相互胶合。

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【技术特征摘要】

1.一种光学显微镜斜入射物镜，其特征在于光学显微镜斜入射物镜由像平面至物平面的方向依次排序为圆柱薄片(s2)、第一镜组(g1)、第二镜组(g2)、第三镜组(g3)和第四镜组(g4)，还包括框架结构(s1)；

2.根据权利要求1所述的一种光学显微镜斜入射物镜，其特征在于所述的圆柱薄片(s2)为铝合金材质。

3.根据权利要求1所述的一种光学显微镜斜入射物镜，其特征在于第一透镜(l1)的物侧面与第二透镜(l2)的像侧面相互胶合。

4.根据权利要求1所述的一种光学显微镜斜入射物镜，其特征在于第三透镜(l3)的物侧面与第四透镜(l4)的像侧面相互胶合。

5.根据权利要求1所述的一种光学显微镜斜入射物镜，其特征在于第五透镜(l5)的物侧面与第六...

【专利技术属性】
技术研发人员：李洋，刘跃，伏捷瑞，王佳鹏，甄良，徐成彦，
申请(专利权)人：哈尔滨工业大学，
类型：发明
国别省市：