改善转移撕裂的发光二极管及其制备方法技术

技术编号:45876231 阅读:12 留言:0更新日期:2025-07-19 11:35
本公开提供了一种改善转移撕裂的发光二极管及其制备方法,属于光电子制造技术领域。该发光二极管包括:衬底、键合层、外延层和钝化层,所述键合层位于所述衬底上,所述外延层位于所述键合层的远离所述衬底的表面上;所述外延层的侧壁具有凸起结构,所述钝化层位于所述外延层的远离所述衬底的表面、所述外延层的侧壁和所述凸起结构的远离所述衬底的表面上。本公开实施例能改善剥离外延层的过程中钝化层出现撕裂的问题。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及光电子制造,特别涉及一种改善转移撕裂的发光二极管及其制备方法


技术介绍

1、微型发光二极管(micro light emitting diode,简称:micro led)是指边长在10微米至100微米的超小发光二极管,micro led的体积小,可以更密集的设置排列而大幅度提高分辨率,并且具有自发光特性,不论是在高亮度、高对比度、高反应性及省电方面都优于液晶显示。

2、相关技术中,发光二极管通常包括衬底、键合层、外延层和钝化层,键合层和外延层依次层叠在衬底的表面上,钝化层位于所述衬底上且覆盖外延层,以避免外延层漏电。发光二极管制备完成后,通常还会采用激光照射衬底和外延层之间的键合层,以使得外延层与键合层之间的粘附力降低,让外延层能从衬底上脱落。

3、然而,外延层在剥离过程中,同时附着在外延层的侧壁和衬底上的钝化层会被撕扯成碎屑,从而产生碎屑污染的问题,而产生的碎屑会影响后续工艺中发光二极管排列和焊接。


技术实现思路

1、本公开实施例提供了一种改善转移撕裂的发光二极管及其制本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种发光二极管,其特征在于,所述发光二极管包括:衬底(10)、键合层(20)、外延层(30)和钝化层(40),所述键合层(20)位于所述衬底(10)上,所述外延层(30)位于所述键合层(20)的远离所述衬底(10)的表面上;

2.根据权利要求1所述的发光二极管,其特征在于,所述凸起结构(300)周向环绕所述外延层(30);或者,

3.根据权利要求1所述的发光二极管,其特征在于,所述凸起结构(300)位于所述外延层(30)的侧壁上靠近所述衬底(10)的一侧。

4.根据权利要求3所述的发光二极管,其特征在于,所述键合层(20)在所述衬底(10)的表面上...

【技术特征摘要】

1.一种发光二极管,其特征在于,所述发光二极管包括:衬底(10)、键合层(20)、外延层(30)和钝化层(40),所述键合层(20)位于所述衬底(10)上,所述外延层(30)位于所述键合层(20)的远离所述衬底(10)的表面上;

2.根据权利要求1所述的发光二极管,其特征在于,所述凸起结构(300)周向环绕所述外延层(30);或者,

3.根据权利要求1所述的发光二极管,其特征在于,所述凸起结构(300)位于所述外延层(30)的侧壁上靠近所述衬底(10)的一侧。

4.根据权利要求3所述的发光二极管,其特征在于,所述键合层(20)在所述衬底(10)的表面上的正投影位于所述凸起结构(300)在所述衬底(10)的表面上的正投影的外轮廓内。

5.根据权利要求1至4任一项所述的发光二极管,其特征在于,所述外延层(30)包括依次层叠在所述键合层(20)上的第一半导体层(31)、多量...

【专利技术属性】
技术研发人员:兰叶王江波朱广敏吴志浩张威
申请(专利权)人:京东方华灿光电苏州有限公司
类型:发明
国别省市:

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