组合物、全息光学元件、投影装置、显示设备及交通工具制造方法及图纸

本申请实施例公开了组合物、全息光学元件、投影装置、显示设备及交通工具，主要目的在于解决全息光致聚合物的原材料在高温/高压处理过程中，出现光敏剂失效、发雾和/或单体提前热聚合的问题。该组合物的可见光光敏剂采用如花菁类、酚噻嗪、苯并噻吩、蒽醌、吩恶嗪、噻吨酮等结构作为阳离子Cn<supgt;+</supgt;，采用烷基链、卤素、磷、氧、氮、硫等中的一种或者多种的组合作为阴离子An<supgt;‑</supgt;，实现对可见光光敏剂的氧化还原电位的调整，使得基态下的可见光光敏剂以及与之搭配的共引发剂更加稳定。这样，当对该组合物进行高温/高压等工艺处理时，不会发生光敏剂失效和起雾，也不会催发单体提前聚合，保证后续曝光出具有较高衍效率的全息光栅。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及全息照相术，尤其涉及一种组合物、全息光学元件、投影装置、显示设备及交通工具。

技术介绍

1、全息术(holography)又称全息照相术，指在全息记录介质上通过记录光波的振幅和位相分布并再现物体三维图像的技术。全息记录介质丰富多样，其中全息光致聚合物(holographic photopolymer)因其可柔性加工、感光范围广、衍射效率高等优点被广泛应用于高端防伪、全息数据存储、全息光学元件制造等高新
为了将全息光致聚合物推向更广阔的应用领域，如增强现实(augmented reality,ar)、抬头显示(head-updisplay,hud)，要求全息光致聚合物必须兼顾优异的光学质量、高衍射效率和良好的耐热性。

2、针对ar和hud等应用场景，光学设计和不同种类玻璃曲面角度，要求对全息光致聚合物的原材料进行特殊严苛的工艺处理(高温/高压)后，形成全息光学元件(holographicoptical elements，hoe)，同时保留全息光学元件优异的衍射效率、可漂白性、光敏性等，以保证利用该全息光学元件进行全息记录时，通过本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种组合物，其特征在于，包括：可见光光敏剂、共引发剂、基质聚合物和至少一种单体；其中，所述可见光光敏剂的通式为：Cn+An-；Cn+表示阳离子，Cn+包括花菁类、酚噻嗪、苯并噻吩、蒽醌、吩恶嗪、噻吨酮中的一种或者多种结构；An-表示阴离子，Cn+包括链状烷基、卤素、磷、氧、氮、硫、硼、金属离子中的一种或者多种。

2.根据权利要求1所述的组合物，其特征在于，所述共引发剂包括二级或三级的脂肪族或芳香族胺类、烷基芳基硼酸铵、醇或硫醇类试剂，所述共引发剂具有氢给体或者电子给体。

3.根据权利要求1所述的组合物，其特征在于，所述可见光光敏剂选自以下结构式的物质：

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【技术特征摘要】

1.一种组合物，其特征在于，包括：可见光光敏剂、共引发剂、基质聚合物和至少一种单体；其中，所述可见光光敏剂的通式为：cn+an-；cn+表示阳离子，cn+包括花菁类、酚噻嗪、苯并噻吩、蒽醌、吩恶嗪、噻吨酮中的一种或者多种结构；an-表示阴离子，cn+包括链状烷基、卤素、磷、氧、氮、硫、硼、金属离子中的一种或者多种。

2.根据权利要求1所述的组合物，其特征在于，所述共引发剂包括二级或三级的脂肪族或芳香族胺类、烷基芳基硼酸铵、醇或硫醇类试剂，所述共引发剂具有氢给体或者电子给体。

3.根据权利要求1所述的组合物，其特征在于，所述可见光光敏剂选自以下结构式的物质：

4.根据权利要求1所述的组合物，其特征在于，所述共引发剂选自以下结构式的物质：

5.根据权利要求1所述的组合物，其特征在于，在将所述组合物由常温加热到200℃的过程中，所述组合物的热重损失＜1.2wt％。

6.根据权利要求1所述的组合物，其特征在于，所述组合物经120℃加热30min后，所述组合物的t640的变化值小于等于40％，所述组合物的t640小于等于80％；其中，t640表示对波长为640nm的可见光的透光率。

7.根据权利要求1所述的组合物，其特征在于，所述组合物经120℃加热30min后，所述组合物的雾度小于等于8％。

8.根据权利要求1所述的组合物，其特征在于，所述组合物经120℃加热30min后，所述组合物的双键转化率小于等于20％。

9.根据权利要求1所述的组...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄鑫，李哲，
申请(专利权)人：华为技术有限公司，
类型：发明
国别省市：