深红光光源制备方法及高拟合度全光谱发光器件技术

技术编号:45869399 阅读:15 留言:0更新日期:2025-07-19 11:25
本发明专利技术提供一种深红光光源制备方法及高拟合度全光谱发光器件,方法包括选取波段范围为380nm~420nm的紫光芯片,并将紫光芯片固焊在支架碗杯上;将低折射率胶水与深红光荧光粉进行均匀混合,以得到混合胶水,并将混合胶水均匀点在紫光芯片正上方,之后将其置于烘箱内进行烘干,得到紫光激发的深红光光源;将深红光光源与常规白光全光谱光源混合,以得到高拟合度的全光谱光源。本发明专利技术采用紫光芯片激发的深红光光源与常规白光全光谱灯珠混合,可以得到与类太阳标准光谱高拟合度的全光谱光源。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及led照明,特别涉及一种深红光光源制备方法及高拟合度全光谱发光器件


技术介绍

1、全光源光源是一种模拟太阳光谱的光源,通过多种led发射不同波长的光线,再经过光学的调节和优化,实现与太阳光谱相似的光谱输出。全光谱中包含紫外光、可见光、红外光的光谱曲线,并且在可见光部分中红绿蓝的比例与太阳光近似,显色指数接近100。全光谱光源因具有色彩还原度高、光线柔和舒适、健康照明以及节能环保等优势,在多个领域得到广泛应用,并展现出巨大的市场潜力。

2、现有技术当中,实现全光谱光源多以蓝光芯片激发各波段荧光粉实现类太阳光谱,但是目前,680~780nm深红外光可见光部分对应光谱仍存在较大缺失。专利cn118231549a公布了一种全光谱光源及制作方法和应用,采用410 nm~420nm、430 nm~440nm、445nm~460 nm混波段芯片,并复配荧光粉组合,可补齐400nm~440nm波段光谱,但是680nm~780nm光谱强度仍相对缺失。专利cn110285389a公布了一种全光谱led光源及含有该光源的led灯,采用紫光全光谱灯珠和本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种深红光光源制备方法,其特征在于,所述方法包括:

2.根据权利要求1所述的深红光光源制备方法,其特征在于,所述紫光芯片的数量大于等于一颗。

3.根据权利要求2所述的深红光光源制备方法,其特征在于,所述紫光芯片为两颗,其中一颗所述紫光芯片的波段范围为390nm~395nm,另一颗所述紫光芯片的波段范围为410nm~415nm。

4.根据权利要求2所述的深红光光源制备方法,其特征在于,所述紫光芯片为两颗,其中一颗所述紫光芯片的波段范围为400nm~405nm,另一颗所述紫光芯片的波段范围为415nm~420nm。

5.根据权利要求1所述的...

【技术特征摘要】

1.一种深红光光源制备方法,其特征在于,所述方法包括:

2.根据权利要求1所述的深红光光源制备方法,其特征在于,所述紫光芯片的数量大于等于一颗。

3.根据权利要求2所述的深红光光源制备方法,其特征在于,所述紫光芯片为两颗,其中一颗所述紫光芯片的波段范围为390nm~395nm,另一颗所述紫光芯片的波段范围为410nm~415nm。

4.根据权利要求2所述的深红光光源制备方法,其特征在于,所述紫光芯片为两颗,其中一颗所述紫光芯片的波段范围为400nm~405nm,另一颗所述紫光芯片的波段范围为415nm~420nm。

5.根据权利要求1所述的深红光光源制备方法,其特征在于,所述深红光荧光粉的峰值波段为660nm~795nm,所述深红光光源在780nm波...

【专利技术属性】
技术研发人员:张路华谢东升王斌左明鹏李义园
申请(专利权)人:江西斯迈得半导体有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1