【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学/材料领域领域,更具体地,涉及一种测量设备的波长校准方法。
技术介绍
1、在半导体行业中,对光学关键尺度(ocd)的测量以及精细结构膜厚的测量,直接关系到生产样品的精度以及良率。椭偏仪因其非接触、无破坏、快速、高精度等优点,被广泛应用于半导体工艺监测。
2、如图1所示,椭偏仪的基本配置包括:光源1,起偏器2,第一旋转电机3,第一补偿器4,待测样件5,第二补偿器6,第二旋转电机7,检偏器8以及光谱仪9。
3、椭偏仪的系统校准与测量的基本原理过程为:
4、1、自然光通过偏振片以及(旋转)波片后得到偏振光;
5、2、偏振光经过标准样品材料的反射或者透射得到的新的偏振光;
6、3、新的偏振光经过检偏臂的(旋转)波片、检偏片后得到变化的光强信息;
7、4、对测量光强变化信息进行处理,得到系统参数。
8、5、测量待测样件的光强信息,对测量光强进行傅里叶处理得到傅里叶系数。
9、6、利用系统参数与待测样件的傅里叶系数计算得到样件的穆勒矩阵
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【技术保护点】
1.一种测量设备的波长校准方法,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的测量设备的波长校准方法,其特征在于,所述将每一个波长对应的实测傅里叶系数和理论傅里叶系数进行迭代拟合得到测量设备在每个波长下的系统参数、入射角、样件厚度和波长偏差,包括:
3.根据权利要求2所述的测量设备的波长校准方法,其特征在于,所述测量设备的光学系统模型为:
4.根据权利要求3所述的测量设备的波长校准方法,其特征在于,所述根据每个波长下的系统参数、波长偏差和待测样件的每一个波长对应的实测傅里叶系数,计算出待测样件的全波段光谱穆勒矩阵,包括:
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【技术特征摘要】
1.一种测量设备的波长校准方法,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的测量设备的波长校准方法,其特征在于,所述将每一个波长对应的实测傅里叶系数和理论傅里叶系数进行迭代拟合得到测量设备在每个波长下的系统参数、入射角、样件厚度和波长偏差,包括:
3.根据权利要求2所述的测量设备的波长校准方法,其特征在于,所述测量设备的光学系统模型为:
4.根据权...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘亚鼎,陶泽,何勇,薛小汝,徐威旺,王瑞,余华,项雅波,
申请(专利权)人:武汉颐光科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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