【技术实现步骤摘要】
本技术属于光学检测,具体涉及一种真空样品光学检测装置。
技术介绍
1、公开号为cn2351756y的中国技术专利,公开了“一种能同时测光投射和光电响应特性的扁平真空样品室”,提供了一种能放入狭窄区域使用扁平真空样品室。此种样品室的仅用于杜瓦测试,没有光源和粒子束的接口,对于需要电磁辐射、光源和电子束作为激发源发光的样品无法实现观察和检测分析。另外,在某些样品检测时,如冷场阴极发光需要一定真空度,现有技术中无法调节真空样品腔内的真空度。
技术实现思路
1、本技术实施例提供一种真空样品光学检测装置,旨在能够解决现有技术中真空样品室只能用于杜瓦测试和无法调节真空样品腔内真空度的技术问题。
2、为实现上述目的,本技术采用的技术方案是:提供一种真空样品光学检测装置,包括真空样品室、顶盖、枪盖组件、高精度比例阀和真空抽气管。真空样品室设有顶部开口的真空腔,所述真空腔用以容纳检测材料;顶盖盖设在所述真空腔顶部,所述顶盖上设有观察窗;所述枪盖组件设于所述顶盖上,所述枪盖组件包括活动压盖、转接头
...【技术保护点】
1.一种真空样品光学检测装置,其特征在于,包括:
2.如权利要求1所述的一种真空样品光学检测装置,其特征在于:所述活动压盖上设有凹槽,且所述凹槽设有通孔,所述铅玻璃与所述通孔的侧壁连接。
3.如权利要求2所述的一种真空样品光学检测装置,其特征在于:所述转接头与所述活动压盖之间设有第一密封圈。
4.如权利要求3所述的一种真空样品光学检测装置,其特征在于:所述转接头与所述光源适配器连接处设有第二密封圈。
5.如权利要求4所述的一种真空样品光学检测装置,其特征在于:所述转接头的另一端为阶梯状,且所述转接头还设有第一环形凸起部和
...【技术特征摘要】
1.一种真空样品光学检测装置,其特征在于,包括:
2.如权利要求1所述的一种真空样品光学检测装置,其特征在于:所述活动压盖上设有凹槽,且所述凹槽设有通孔,所述铅玻璃与所述通孔的侧壁连接。
3.如权利要求2所述的一种真空样品光学检测装置,其特征在于:所述转接头与所述活动压盖之间设有第一密封圈。
4.如权利要求3所述的一种真空样品光学检测装置,其特征在于:所述转接头与所述光源适配器连接处设有第二密封圈。
5.如权利要求4所述的一种真空样品光学检测装置,其特征在于:所述转接头的另一端为阶梯状...
【专利技术属性】
技术研发人员:范东宇,李阳,田润泽,
申请(专利权)人:北京恒元华建科技发展有限公司,
类型:新型
国别省市:
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