【技术实现步骤摘要】
本技术涉及离子源，特别是一种离子源外壳及离子源。
技术介绍
1、离子源工作中，rf线圈为等离子体提供所需的能量，但离子源外壳同样也受rf线圈的热量影响，表面温度会不断升高。
2、目前离子源外壳的散热不均，而导致冷却效果不佳，以使离子源内部的温度不断升高，离子源内部零件受高温影响而损坏，进而降低了离子源的使用寿命。
技术实现思路
1、本技术实施例要解决的技术问题在于，提供一种离子源外壳及离子源，以解决现有技术中离子源内部零件受高温影响而损坏，进而降低了使用寿命离子源的使用稳定性和使用寿命的问题。
2、本技术公开了一种离子源外壳，包括：壳体、隔板、进水管和出水管，所述壳体上沿其周向形成有一容纳腔体；隔板设于所述壳体上并位于所述容纳腔体内；进水管和出水管均设于所述壳体上并与所述容纳腔体连通，所述进水管和所述出水管分居于所述隔板的两侧，以使所述进水管和所述出水管沿所述容纳腔体的周向连通。
3、可选地，所述壳体包括套设的内壳体和外壳体、底板以及顶板，所述内壳体和所...
【技术保护点】
1.一种离子源外壳，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的离子源外壳，其特征在于，所述壳体包括套设的内壳体和外壳体、底板以及顶板，所述内壳体和所述外壳体保持预设间距设置，所述底板和所述顶板沿所述内壳体和所述外壳体的高度方向设于其两端，以使所述内壳体、所述外壳体、所述底板和所述顶板围合形成所述容纳腔体。
3.根据权利要求2所述的离子源外壳，其特征在于，所述壳体内还设置有：
4.根据权利要求3所述的离子源外壳，其特征在于，多个所述导流板沿所述壳体的周向分部在所述容纳腔体内。
5.根据权利要求3所述的离子源外壳，其特征在...
【技术特征摘要】
1.一种离子源外壳，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的离子源外壳，其特征在于，所述壳体包括套设的内壳体和外壳体、底板以及顶板，所述内壳体和所述外壳体保持预设间距设置，所述底板和所述顶板沿所述内壳体和所述外壳体的高度方向设于其两端，以使所述内壳体、所述外壳体、所述底板和所述顶板围合形成所述容纳腔体。
3.根据权利要求2所述的离子源外壳，其特征在于，所述壳体内还设置有：
4.根据权利要求3所述的离子源外壳，其特征在于，多个所述导流板沿所述壳体的周向分部在所述容纳腔体内。
5.根据权利要求3所述的离子源外壳，其特征在于，所述进水管、所述出水管以及所述隔板均位于相邻的两个所述导流板之间。
6.根据权利要求3所述的离子源外壳，其特征在于，沿所述壳体的高度方向，所述进水管和所述出水管设于所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：张海飞，范文明，卓永生，刘家湛，
申请(专利权)人：昂成精密仪器深圳有限公司，
类型：新型
国别省市：
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