【技术实现步骤摘要】
本申请涉及氧化钇绝缘涂层制备的,尤其是涉及一种应用在pecvd腔体内的碳纤维载板的氧化钇绝缘涂层的制备方法。
技术介绍
1、pecvd全称为等离子体增强化学气相沉积技术,是一种在沉积腔室利用辉光放电使其电离后在衬底上进行化学反应沉积的半导体薄膜材料制备和其他材料薄膜的制备方法,其通过等离子体激活作用增强化学气相反应物质活性,提高表面反应速率,并通过高能离子显著降低了薄膜沉积温度。
2、但在实际应用中,现有的大多数pecvd工艺在操作过程中,碳纤维材料在高温下容易发生氧化和性能退化,其次,pecvd工艺中可能使用腐蚀性气体(如含氟或含氯气体),这些气体会侵蚀碳纤维材料,其次,在pecvd工艺中可能因机械摩擦或颗粒冲击而受损,其次,碳纤维与氧化钇的热膨胀系数差异较大,可能导致涂层在高温下开裂或剥落,其次,碳纤维载板在pecvd工艺中容易因高温、氧化或腐蚀而失效,需要频繁更换,增加了维护成本等不足之处,同时因上述等缺点导致了局限性的产生,不利于推广使用。
3、因此,本领域技术人员提供了一种应用在pecvd腔体内的碳纤维
...【技术保护点】
1.一种应用在PECVD腔体内的碳纤维载板的氧化钇绝缘涂层的制备方法,其特征在于,包括以下所述的步骤:
2.根据权利要求1所述的一种应用在PECVD腔体内的碳纤维载板的氧化钇绝缘涂层的制备方法,其特征在于:所述步骤一中将碳纤维基材使用超声波水洗机进行超声波清洗三十分钟。
3.根据权利要求1所述的一种应用在PECVD腔体内的碳纤维载板的氧化钇绝缘涂层的制备方法,其特征在于:所述步骤二中将超声水洗过的碳纤维载板放入至干燥室中,调节干燥室恒定温度为六十度,并干燥二十四小时。
4.根据权利要求1所述的一种应用在PECVD腔体内的碳纤维载板的
...【技术特征摘要】
1.一种应用在pecvd腔体内的碳纤维载板的氧化钇绝缘涂层的制备方法,其特征在于,包括以下所述的步骤:
2.根据权利要求1所述的一种应用在pecvd腔体内的碳纤维载板的氧化钇绝缘涂层的制备方法,其特征在于:所述步骤一中将碳纤维基材使用超声波水洗机进行超声波清洗三十分钟。
3.根据权利要求1所述的一种应用在pecvd腔体内的碳纤维载板的氧化钇绝缘涂层的制备方法,其特征在于:所述步骤二中将超声水洗过的碳纤维载板放入至干燥室中,调节干燥室恒定温度为六十度,并干燥二十四小时。
4.根据权利要求1所述的一种应用在pecvd腔体内的碳纤维载板的氧化钇绝缘涂层的制备方法,其特征在于:所述步骤三中将碳纤维载板使用metco f4机台进行y2o3粉种进行等...
【专利技术属性】
技术研发人员:程宇豪,刘海波,金世彬,周晨叡,谢铭,
申请(专利权)人:光晋科技合肥有限公司,
类型:发明
国别省市:
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