清洁装置、处理装置以及分别用于清洁和处理罐状空心体的方法，尤其涉及用于半导体晶圆或光刻掩模的运输容器制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种用于清洁罐状空心体(12)的清洁装置(44)，其中清洁装置(44)包含至少一个界定清洁空间(50)的侧壁(46)，该侧壁(46)形成至少一个装置开口(48)，借助抓取和移动装置(18)，由盖子(30)封闭的空心体(12)可通过该装置开口被引入清洁空间(50)中，以便清洁空心体外表面(32)，并且清洁装置(44)包含至少一个供应装置(52)，用于向由盖子(30)封闭的空心体(12)的空心体外表面(32)供应清洁流体，其中装置开口(48)的构造使得抓取和移动装置(18)至少在供应清洁流体时至少部分地伸入清洁空间(50)中，或与装置开口(48)齐平终止。此外，本发明专利技术涉及一种具有这种清洁装置(44)的处理装置(42)，以及一种使用这种处理装置(42)清洁罐状空心体的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

技术介绍

技术实现思路

【技术保护点】

1.一种用于清洁罐状空心体(12)的清洁装置(44)，尤其用于清洁半导体晶圆或光刻掩模的运输容器，其中：

2.根据权利要求1所述的清洁装置(44)，

3.根据权利要求2所述的清洁装置(44)，

4.根据权利要求2所述的清洁装置(44)，

5.根据权利要求2至4中任一项所述的清洁装置(44)，

6.根据权利要求3和5或4和5所述的清洁装置(44)，

7.根据权利要求2至6中任一项所述的清洁装置(44)，

8.根据前述权利要求中任一项所述的清洁装置(44)，

9.根据权利要求8所述的清洁装置(44...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种用于清洁罐状空心体(12)的清洁装置(44)，尤其用于清洁半导体晶圆或光刻掩模的运输容器，其中：

2.根据权利要求1所述的清洁装置(44)，

3.根据权利要求2所述的清洁装置(44)，

4.根据权利要求2所述的清洁装置(44)，

5.根据权利要求2至4中任一项所述的清洁装置(44)，

6.根据权利要求3和5或4和5所述的清洁装置(44)，

7.根据权利要求2至6中任一项所述的清洁装置(44)，

8.根据前述权利要求中任一项所述的清洁装置(44)，

9.根据权利要求8所述的清洁装置(44)，

10.根据前述权利要求中任一项所述的清洁装置(44)，

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【专利技术属性】
技术研发人员：卢茨·雷布施托克，埃尔韦·吉夏尔达兹，
申请(专利权)人：GSEC德国半导体设备有限公司，
类型：发明
国别省市：