设计版图轮廓计算方法、设备及介质技术

本申请公开了一种设计版图轮廓计算方法、设备及介质，涉及半导体集成电路技术领域。该设计版图轮廓计算方法包括：获得目标设计版图，目标设计版图中包含芯片设计图形通过边打断得到的多个段边，每个段边上有一个特征点，从目标设计版图中确定至少一个目标段边组，待求解曲线段为连接对应目标段边组中多个特征点的轮廓曲线，利用目标段边组中多个段边的特征点的相对位置和曲线计算算法，确定目标段边组对应的待求解曲线段在特征点处的切线角度的调整范围，切线角度为切线与参考方向之间的夹角，以待求解曲线段在特征点处的切线角度符合调整范围为约束确定目标切线角度，基于目标切线角度和曲线计算算法，计算每个待求解曲线段的曲线参数。

【技术实现步骤摘要】

本申请属于半导体集成电路，尤其涉及一种设计版图轮廓计算方法、设备及介质。

技术介绍

1、在半导体集成电路
中，光学邻近效应修正(optical proximitycorrection，opc)是分辨率增强技术(resolution enhancement technology，ret)中的关键技术之一。opc技术，通过物理模型模拟光学邻近效应，根据仿真结果对设计版图进行调整，反复迭代，直至生成的掩模版能在硅片上产生符合设计要求的成像轮廓。opc技术依赖于理想成像轮廓作为调整图形的目标，因此理想轮廓的优劣直接影响优化效果。

2、但是，目前理想成像轮廓的算法所生成的成像轮廓并不够理想，可能在连接处发生跳变，不能很好地吻合真实的物理成像轮廓，从而造成opc技术的优化效果不佳。

技术实现思路

1、本申请实施例提供了一种设计版图轮廓计算方法、设备、介质及产品，能够提升理想成像轮廓的平滑性，更好地吻合真实的物理成像轮廓，进而提高opc技术的优化效果。

2、本申请实施例的第一方面，提供一种设计本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种设计版图轮廓计算方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，利用所述目标段边组中多个所述段边的特征点的相对位置和曲线计算算法，确定所述目标段边组对应的所述待求解曲线段在特征点处的切线角度的调整范围，包括：

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，至少一个所述目标段边组包括三个连续的段边、所述三个连续的段边包括中间过渡段边和分别从所述中间过渡段边的两端沿相反方向垂直地延伸出的首段边和尾段边；

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述切线角度的预设约束条件，还包括：

5.根据权利要求3所述的方法，其特征在...

【技术特征摘要】

1.一种设计版图轮廓计算方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，利用所述目标段边组中多个所述段边的特征点的相对位置和曲线计算算法，确定所述目标段边组对应的所述待求解曲线段在特征点处的切线角度的调整范围，包括：

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，至少一个所述目标段边组包括三个连续的段边、所述三个连续的段边包括中间过渡段边和分别从所述中间过渡段边的两端沿相反方向垂直地延伸出的首段边和尾段边；

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述切线角度的预设约束条件，还包括：

5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，至少一个所述目标段边组包括四个连续的段边、所述四个连续的段边包括首段边、两个中间过渡段边和尾段边，其中，所述两个中间过渡段边包括第一中间过渡段边和第二中间过渡段边，所述第一中间过渡段边的两端，沿相反方向垂直地延伸出所述首段边和第二中间过渡段边，且所述第二中间过渡段边上远离所...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈板桥，
申请(专利权)人：深圳晶源信息技术有限公司，
类型：发明
国别省市：