【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及蒸镀层厚度控制，具体的说是一种可自动跟踪并调整蒸镀层厚度的控制系统及方法。
技术介绍
1、在现代薄膜制造工艺中，如物理气相沉积、化学气相沉积以及其他类似的表面涂层技术，蒸镀层厚度的精确控制对于确保最终产品的性能和质量至关重要。无论是半导体器件、光学元件还是光伏电池等应用领域，都需要高精度的膜厚控制来满足特定的功能要求。
2、传统的蒸镀工艺通常依赖于固定参数设置，即在沉积开始前设定好蒸发源功率，并在整个沉积过程中保持不变，这种方法虽然简单易行，但在面对复杂多变的实际工况时显得力不从心，无法及时响应沉积过程中发生的细微变化，导致膜厚偏离预定值，往往需要延长沉积时间或增加额外处理步骤，增加了成本。
技术实现思路
1、本专利技术针对现有技术中的问题，提供一种可自动跟踪并调整蒸镀层厚度的控制系统及方法，具体技术方案如下：
2、本申请提供一种可自动跟踪并调整蒸镀层厚度的控制系统，包括：
3、监测模块，所述监测模块用于实时获取蒸镀层厚度信息并将其传输至控
【技术保护点】
1.一种可自动跟踪并调整蒸镀层厚度的控制系统，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种可自动跟踪并调整蒸镀层厚度的控制系统，其特征在于，所述监测模块包括：
3.根据权利要求1所述的一种可自动跟踪并调整蒸镀层厚度的控制系统，其特征在于，所述控制模块包括：
4.根据权利要求3所述的一种可自动跟踪并调整蒸镀层厚度的控制系统，其特征在于，所述控制算法单元依赖以下公式计算控制量u(t)：
5.根据权利要求1所述的一种可自动跟踪并调整蒸镀层厚度的控制系统，其特征在于，所述执行模块的调整对象包括蒸发源功率调整和蒸镀时间调整。<...
【技术特征摘要】
1.一种可自动跟踪并调整蒸镀层厚度的控制系统，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种可自动跟踪并调整蒸镀层厚度的控制系统，其特征在于，所述监测模块包括：
3.根据权利要求1所述的一种可自动跟踪并调整蒸镀层厚度的控制系统，其特征在于，所述控制模块包括：
4.根据权利要求3所述的一种可自动跟踪并调整蒸镀层厚...
【专利技术属性】
技术研发人员：许美娜，麦灼棠，吴良军，
申请(专利权)人：安徽旭峰电容器有限公司，
类型：发明
国别省市：
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