一种极紫外光超表面透镜的设计与制备方法技术

技术编号:45530429 阅读:30 留言:0更新日期:2025-06-13 17:29
本发明专利技术涉及一种极紫外光超表面透镜的设计与制备方法,属于超表面技术领域,解决了现有技术中针对极紫外波段折射式透镜吸收严重以及反射式透镜设计复杂等问题。包括如下步骤:根据结构单元的光学响应,建立相位调制范围在0至2π的结构单元库,其中,所述结构单元为具有空气孔的金属板,并且构成所述金属板的金属材料对极紫外光的折射率小于1;根据极紫外光超表面透镜的设计参数,计算所述极紫外光超表面透镜的相位分布;根据所述相位分布和所述结构单元库,采用匹配与挑选算法得到所述极紫外光超表面透镜的布局版图;以及根据所述布局版图,采用半导体加工工艺制备出所述极紫外光超表面透镜。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及超表面,尤其涉及一种极紫外光超表面透镜的设计与制备方法


技术介绍

1、在过去的几十年中,随着现代光学技术的不断发展,人们对短波长(紫外、极紫外等)光学元件的需求越来越高。对于极紫外光(extreme ultraviolet,euv),它覆盖的波长范围从10到121纳米,对应的光子能量为10到124电子伏特(ev)。极紫外光学是研究极紫外波长范围内的光学现象和应用的学科,涉及到许多不同的领域,包括材料科学、半导体光刻技术、超快光谱学、光学制造、光学测量和应用、纳米技术、生物医学、环境监测等。极紫外光学的应用前景特别广阔,已经成为一个重要的研究领域。

2、超表面是一种亚波长结构单元的阵列,其可以通过控制光的相位、振幅和偏振等自由度来实现传统光学元器件的平面化,以及新颖的功能或更强的性能。其中,实现聚焦和成像功能的超表面透镜是近年来微纳光学领域发展的一个热点。

3、极紫外光刻技术被认为是先进制程芯片制造的主流技术,可以实现相比深紫外(duv)光刻更小的特征尺寸。同时,超快光谱学、阿秒科学等研究领域皆依赖于非常短的波长,往往本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种极紫外光超表面透镜的设计与制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的极紫外光超表面透镜的设计与制备方法,其特征在于,所述空气孔具有90°旋转对称性。

3.根据权利要求1所述的极紫外光超表面透镜的设计与制备方法,其特征在于,所述金属材料为以下任一种:

4.根据权利要求1所述的极紫外光超表面透镜的设计与制备方法,其特征在于,所述0至2π的相位调制范围是通过调整所述空气孔的横向尺寸和所述金属板的厚度而得到的。

5.根据权利要求2所述的极紫外光超表面透镜的设计与制备方法,其特征在于,所述空气孔的形状为以下任一种:

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【技术特征摘要】

1.一种极紫外光超表面透镜的设计与制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的极紫外光超表面透镜的设计与制备方法,其特征在于,所述空气孔具有90°旋转对称性。

3.根据权利要求1所述的极紫外光超表面透镜的设计与制备方法,其特征在于,所述金属材料为以下任一种:

4.根据权利要求1所述的极紫外光超表面透镜的设计与制备方法,其特征在于,所述0至2π的相位调制范围是通过调整所述空气孔的横向尺寸和所述金属板的厚度而得到的。

5.根据权利要求2所述的极紫外光超表面透镜的设计与制备方法,其特征在于,所述空气孔的形状为以下任一种:

6.根据权利要求1所述的极紫外光超表面透镜的设计与制备...

【专利技术属性】
技术研发人员:岳嵩冯彦鸣王然侯煜李曼石海燕张昆鹏张紫辰
申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所
类型:发明
国别省市:

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