【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及设备运行控制，尤其涉及一种匀胶烘烤机运行控制系统。
技术介绍
1、半导体制造工艺中，匀胶烘烤工序是晶圆加工的关键环节，其质量直接影响芯片的良率和性能。传统匀胶烘烤机在运行控制方面存在多项技术瓶颈：伺服系统参数固定，难以适应环境变化和工艺差异；转速控制精度低，晶圆旋转过程中速度波动大，导致涂胶不均；铲手机构的位置精度和真空吸附控制系统响应滞后，增加了晶圆损伤风险；各加热区域间热量交叉影响严重，温度不均匀问题难以解决。这些问题在高精度半导体制造工艺中尤为突出。
2、随着芯片制程不断缩小，对匀胶烘烤工艺的控制精度要求越来越高。现有技术中，单一pid控制方式无法有效应对系统参数变化和外部干扰，各控制单元之间缺乏协同机制，难以实现整体最优控制。特别是在涂胶流量控制和热量管理方面，由于缺少动态补偿机制，工艺一致性差，批次间变异大，严重制约了半导体制造的稳定性和产品品质。
技术实现思路
1、本专利技术提供了一种匀胶烘烤机运行控制系统，本专利技术实现了涂胶定位精度控制，提高了涂胶...
【技术保护点】
1.一种匀胶烘烤机运行控制系统，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的匀胶烘烤机运行控制系统，其特征在于，所述初始化模块具体用于：
3.根据权利要求1所述的匀胶烘烤机运行控制系统，其特征在于，所述时序控制模块具体用于：
4.根据权利要求1所述的匀胶烘烤机运行控制系统，其特征在于，所述转速分级控制模块具体用于：
5.根据权利要求1所述的匀胶烘烤机运行控制系统，其特征在于，所述涂胶控制模块具体用于：
6.根据权利要求1所述的匀胶烘烤机运行控制系统，其特征在于，所述补偿控制模块还包括：
7.根据权...
【技术特征摘要】
1.一种匀胶烘烤机运行控制系统，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的匀胶烘烤机运行控制系统，其特征在于，所述初始化模块具体用于：
3.根据权利要求1所述的匀胶烘烤机运行控制系统，其特征在于，所述时序控制模块具体用于：
4.根据权利要求1所述的匀胶烘烤机运行控制系统，其特征在于，所述转...
【专利技术属性】
技术研发人员：李中亮，程文娟，徐海涛，李德鹏，王民，任田田，张倩，
申请(专利权)人：青岛金汇源电子有限公司，
类型：发明
国别省市：
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