一种氩离子束扫描电镜污染物捕获装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种氩离子束扫描电镜污染物捕获装置及方法，该污染物捕获装置包括样品处溅射捕获装置、物镜下挡板保护装置；其中，所述样品处溅射捕获装置采用可移动的半封闭多层结构，该结构由耐溅射金属材料制成，包括一个捕获罩和一个可拆卸的收集器,用于在离子束抛光时，捕获和收集氩离子束扫描电镜的样品处的溅射污染物；所述物镜下挡板保护装置采用可移动的耐溅射金属挡板构成，用于在离子束抛光时，收集落到氩离子束扫描电镜的物镜上的溅射污染物。本发明专利技术通过双重保护机制，有效捕获和收集溅射污染物，最大限度地减少污染物的扩散；能够防止污染物沉积在物镜和其他关键部件上，延长其使用寿命，提高系统稳定性；能够减少污染物对成像的影响，提高图像质量和分析精度；半封闭多层结构和挡板设计易于拆卸和更换，方便维护。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及扫描电子显微镜，特别涉及一种氩离子束扫描电镜污染物捕获装置及方法。

技术介绍

1、氩离子束扫描电镜(以下简称absem)集成了宽束氩离子源于扫描电镜样品室内，实现原位离子束抛光和电子束成像。然而，离子束抛光过程中，样品表面会发生溅射，产生大量原子(以下简称“溅射污染物”)，这些污染物会污染样品室的其他部件，影响实验结果的准确性和设备的使用寿命，具体如下：

2、污染物沉积在样品表面：影响后续的成像质量，导致图像模糊、对比度下降、出现伪影等问题，降低分析精度；

3、污染物沉积在物镜上：影响物镜的透镜性能，降低分辨率，甚至损坏物镜；

4、污染物沉积在探测器上：降低探测器的灵敏度和信噪比；

5、污染物在真空系统中累积：影响真空度，降低系统稳定性，缩短使用寿命。

6、现有技术缺乏有效的污染物捕获装置，导致溅射污染物在样品室内扩散，严重影响系统的成像质量、系统稳定性和使用寿命。

技术实现思路

1、为了实现本专利技术的上述目的和其他优点，本专利技术的本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种氩离子束扫描电镜污染物捕获装置，其特征在于：包括样品处溅射捕获装置、物镜下挡板保护装置；其中，

2.如权利要求1所述的一种氩离子束扫描电镜污染物捕获装置，其特征在于：所述样品处溅射捕获装置包括第一移动组件、半封闭多层结构，所述第一移动组件与所述半封闭多层结构固定连接，所述第一移动组件用于在控制板的控制下实现所述半封闭多层结构的移动，所述半封闭多层结构用于将离子束和样品罩住，引导并收集溅射污染物。

3.如权利要求2所述的一种氩离子束扫描电镜污染物捕获装置，其特征在于：所述半封闭多层结构包括捕获罩、收集器，所述收集器可拆卸地安装于所述捕获罩内，所述捕获罩用于限...

【技术特征摘要】

1.一种氩离子束扫描电镜污染物捕获装置，其特征在于：包括样品处溅射捕获装置、物镜下挡板保护装置；其中，

2.如权利要求1所述的一种氩离子束扫描电镜污染物捕获装置，其特征在于：所述样品处溅射捕获装置包括第一移动组件、半封闭多层结构，所述第一移动组件与所述半封闭多层结构固定连接，所述第一移动组件用于在控制板的控制下实现所述半封闭多层结构的移动，所述半封闭多层结构用于将离子束和样品罩住，引导并收集溅射污染物。

3.如权利要求2所述的一种氩离子束扫描电镜污染物捕获装置，其特征在于：所述半封闭多层结构包括捕获罩、收集器，所述收集器可拆卸地安装于所述捕获罩内，所述捕获罩用于限制溅射污染物的扩散，所述收集器用于收集溅射污染物。

4.如权利要求3所述的一种氩离子束扫描电镜污染物捕获装置，其特征在于：所述收集器为孔径由内至外逐层减小的多层结构。

5.如权利要求4所述的一种氩离子束扫描电镜污染物捕获装置，其特征在于：所述捕获罩采用耐溅射性能的金属材料制成，所述收集器采用抗溅射性能的多孔金属材料制成。

6.如权利要求2所述的一种氩离子束扫...

【专利技术属性】
技术研发人员：尉东光，贾晨，杨旭，杨建强，马刚，
申请(专利权)人：屹东光学技术苏州有限公司，
类型：发明
国别省市：