【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及静电卡盘组件。
技术介绍
1、半导体器件制造中的电路形成一般通过等离子体蚀刻来进行。等离子体蚀刻是通过向等离子体蚀刻装置内的真空腔室导入不活性气体来进行等离子体化而进行的。在等离子体蚀刻装置内设置有静电卡盘组件,所述静电卡盘组件作为用于载置应被蚀刻的晶片的基座发挥作用。静电卡盘组件具备作为静电卡盘发挥作用的电极内置陶瓷板和支承电极内置陶瓷板的底面的冷却板。晶片静电吸附于电极内置陶瓷板,从而在固定于静电卡盘组件的状态下被实施等离子体蚀刻。另一方面,冷却板设置于电极内置陶瓷板的底面,由此构成为夺取因等离子体蚀刻而在晶片产生的热。作为静电卡盘组件向真空腔室内的安装方法,采用了利用螺栓或螺钉进行的紧固。
2、专利文献1(日本专利第4590393号公报)公开了一种基板保持体,其具备:具有多个贯通孔的陶瓷基体;多个圆筒状金属插座,其插入各贯通孔且具有螺栓孔;第一钎焊材料,其设置在圆筒状金属插座与贯通孔之间;金属环,其嵌入陶瓷基体的外周侧壁;和第二钎焊材料,其设置在金属环与陶瓷基体的外周侧壁之间,在陶瓷基体的内部设置有用于静
...【技术保护点】
1.一种静电卡盘组件,其具备:
2.根据权利要求1所述的静电卡盘组件,其特征在于,
3.根据权利要求1或2所述的静电卡盘组件,其特征在于,
4.根据权利要求1或2所述的静电卡盘组件,其特征在于,
5.根据权利要求1或2所述的静电卡盘组件,其特征在于,
6.根据权利要求5所述的静电卡盘组件,其特征在于,
7.根据权利要求6所述的静电卡盘组件,其特征在于,
8.根据权利要求7所述的静电卡盘组件,其特征在于,
9.根据权利要求5所述的静电卡盘组件,其特征在于,
10.
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种静电卡盘组件,其具备:
2.根据权利要求1所述的静电卡盘组件,其特征在于,
3.根据权利要求1或2所述的静电卡盘组件,其特征在于,
4.根据权利要求1或2所述的静电卡盘组件,其特征在于,
5.根据权利要求1或2所述的静电卡盘组件,其特征在于,
6.根据权利要求5所述的静电卡盘组件,其特征在于,
7.根据权利要求6所述的静电卡盘组件,其特征在于,
8.根...
【专利技术属性】
技术研发人员:竹林央史,和气隼也,小岛充,
申请(专利权)人:日本碍子株式会社,
类型:发明
国别省市:
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