【技术实现步骤摘要】
本申请涉及半导体或光伏设备领域，具体涉及一种过滤组件、尾气处理装置及沉积设备。
技术介绍
1、半导体或光伏材料广泛应用于电子、新能源等行业，半导体和光伏材料通常都需要经过化学处理才能够应用，例如，采用化学气相沉积(chemical vapor deposition，cvd)技术处理。实际应用中还会包括一些常见的扩散处理，例如磷扩散、硼扩散等。根据具体提的加工需求，可以选择相应的设备进行加工，常是将片状材料送入炉中在一定温度和压力的条件下进行反应来实现，因此涉及气体扩散和排放。在气体扩散和排放过程中，需要对尾气进行处理，包括对尾气进行过滤处理。
2、然而专利技术人发现，传统技术中对尾气进行过滤处理过程中，随着处理时间增长，尾气的杂质沉积在尾气管道和元器件中，存在气体流动受到干扰或阀门损坏的问题，因此，亟需一种过滤组件，解决上述问题。
技术实现思路
1、有鉴于此，本申请实施例提供了一种过滤组件，解决了气体流动受到干扰或阀门损坏的问题。
2、第一方面，本申请一实施例提供了...
【技术保护点】
1.一种过滤组件，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的过滤组件，其特征在于，所述第一腔室的延伸方向为水平方向，或者，
3.根据权利要求2所述的过滤组件，其特征在于，包括：
4.根据权利要求1所述的过滤组件，其特征在于，所述壳体包括多个所述第二腔室：
5.根据权利要求1所述的过滤组件，其特征在于，所述第二腔室具有更换口；
6.根据权利要求5所述的过滤组件，其特征在于，所述过滤组件还包括：
7.根据权利要求6所述的过滤组件，其特征在于，所述壳体的靠近所述更换口的一端具有远离所述第二腔室的凸起；
8.根...
【技术特征摘要】
1.一种过滤组件，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的过滤组件，其特征在于，所述第一腔室的延伸方向为水平方向，或者，
3.根据权利要求2所述的过滤组件，其特征在于，包括：
4.根据权利要求1所述的过滤组件，其特征在于，所述壳体包括多个所述第二腔室：
5.根据权利要求1所述的过滤组件，其特征在于，所述第二腔室具有更换口；
6.根据权利要求5所述的过滤组件，其特征在于，所述过滤组件还包括：
【专利技术属性】
技术研发人员：裴志伟，梁笑，张武，
申请(专利权)人：拉普拉斯新能源科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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