一种可用于真空低背景环境的真空腔制造技术

技术编号:44973240 阅读:48 留言:0更新日期:2025-04-12 01:48
本发明专利技术涉及热学计量技术领域,尤其涉及一种可用于真空低背景环境的真空腔,包括真空腔主体、冷却舱、控制泵、液氮罐;冷却舱置于真空腔主体内部,通过控制泵与真空腔主体外的液氮罐连通接入液氮,控制泵通过自动调节吸取液氮的流量对冷却舱的制冷进行控制,实现真空腔主体的温度调节。本发明专利技术消耗少、控制精度高、温区范围广。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及热学计量,尤其涉及一种可用于真空低背景环境的真空腔


技术介绍

1、在航空航天、核物理、生物医学等领域,由于物质的某些优良低温特性受到广泛的关注,进而相关的低温技术被应用于诸多行业,比如,在航天系统低温液氢作为清洁高效燃料应用于火箭系统;在核能系统,用超低温恒温技术控制核反应堆;在生物医学领域,用低温液体保存生物样品等。随着我国空间探索、低温工程、气体工业和科学实验等相关技术的不断发展,对低温的校准需求也日益增多,特别是航天领域,对低温助燃剂的温度校准需求极为迫切,且对于小型化、智能化的需求越来越高。真空度是衡量气体稀薄程度的一个指标,在真空状态下,气体的压力值越小,表示气体越稀薄,真空度越高;反之,压力值越大,气体越密集,真空度越低。随着低温技术的发展,能应用于真空低背景环境的真空腔也越来越受到重视。


技术实现思路

1、有鉴于此,本专利技术提供一种可用于真空低背景环境的真空腔,消耗少、控制精度高、温区范围广。

2、本专利技术通过以下技术方案实现:一种可用于真空低背景环境的真空腔,包本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种可用于真空低背景环境的真空腔,其特征在于,包括真空腔主体、冷却舱、控制泵、液氮罐;

2.如权利要求1所述的可用于真空低背景环境的真空腔,其特征在于,冷却舱包括金属材料制成的筒状结构和制冷管,制冷管均匀缠绕在筒状结构外围,制冷管与控制泵连通接入液氮。

3.如权利要求2所述的可用于真空低背景环境的真空腔,其特征在于,设有两组相对应的制冷管、控制泵和液氮罐,两路制冷管直径不同、同向无交叉缠绕在筒状结构上。

4.如权利要求2所述的可用于真空低背景环境的真空腔,其特征在于,筒状结构设有轴向限位块,若干个限位块沿筒状结构周向均匀设置构成限位单元,沿筒状结构...

【技术特征摘要】

1.一种可用于真空低背景环境的真空腔,其特征在于,包括真空腔主体、冷却舱、控制泵、液氮罐;

2.如权利要求1所述的可用于真空低背景环境的真空腔,其特征在于,冷却舱包括金属材料制成的筒状结构和制冷管,制冷管均匀缠绕在筒状结构外围,制冷管与控制泵连通接入液氮。

3.如权利要求2所述的可用于真空低背景环境的真空腔,其特征在于,设有两组相对应的制冷管、控制泵和液氮罐,两路制冷管直径不同、同向无交叉缠绕在筒状结构上。

4.如权利要求2所述的可用于真空低背景环境的真空腔,其特征在于,筒状结构设有轴向限位块,若干个限位块沿筒状结构周向均匀设置构成限位单元,...

【专利技术属性】
技术研发人员:张俊祺罗兆明王文革裴雅鹏赵化业刘鑫
申请(专利权)人:北京航天计量测试技术研究所
类型:发明
国别省市:

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