【技术实现步骤摘要】
本申请涉及显示,具体地涉及一种阵列基板及其制备方法、显示装置。
技术介绍
1、在现有的工艺中,通常选择在刚性基台上对显示面板中的部分膜层结构进行制备,以提高显示面板的成品良率。其中,上述部分膜层常见为柔性显示面板中的聚酰亚胺膜层。需要注意的是,上述聚酰亚胺膜层中通常包括含氟粒子基团,该含氟粒子基团的存在可以降低聚酰亚胺膜层中出现电荷转移现象的概率,进而减小聚酰亚胺膜层出现黄化现象的可能性。
2、现有的聚酰亚胺膜层的制备过程通常需要在刚性基台上完成,即,聚酰亚胺膜层往往会与刚性基台接触。然而,由于工艺技术限制,刚性基台表面通常包含大量具有易失电子性质的粒子(例如碱金属离子、碱土金属离子等),并且上述粒子容易扩散至聚酰亚胺膜层中。上述粒子可以与含氟粒子基团反应并且导致聚酰亚胺膜层中的含氟粒子基团减少,进而难以抑制聚酰亚胺膜层中的电荷转移现象,最终导致聚酰亚胺膜层的黄化程度升高,影响视效。
技术实现思路
1、有鉴于此,本申请提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置,以利于解决上述显示面
...【技术保护点】
1.一种阵列基板的制备方法,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述第一粒子在所述第一表面上的初始浓度为ρ,所述第一粒子在所述第一无机层中的第一位置处的浓度为ρ/e,e为指数常数;
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述固化所述第一有机溶液,形成第一有机膜,包括:
4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,所述阈值范围为0≤T≤10ppm。
5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,在所述固化所述第一有机溶液,形成第一有机膜之后至所述将所述第一有机膜与所述基底剥离之前,还
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【技术特征摘要】
1.一种阵列基板的制备方法,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述第一粒子在所述第一表面上的初始浓度为ρ,所述第一粒子在所述第一无机层中的第一位置处的浓度为ρ/e,e为指数常数;
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述固化所述第一有机溶液,形成第一有机膜,包括:
4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,所述阈值范围为0≤t≤10ppm。
5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,在所述固化所述第一有机溶液,形成第一有机膜之后至所述将所述第一有机膜与所述基底剥离之前,还包括:
6.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于...
【专利技术属性】
技术研发人员:曹双迎,
申请(专利权)人:武汉天马微电子有限公司上海分公司,
类型:发明
国别省市:
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